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2019 Fiscal Year Annual Research Report

Device physics of low-voltage transistors using gate-induced phase transitions

Research Project

Project/Area Number 17H04812
Research InstitutionThe University of Tokyo

Principal Investigator

矢嶋 赳彬  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (10644346)

Project Period (FY) 2017-04-01 – 2020-03-31
Keywords酸化バナジウム / モットトランジスタ / ジュール熱 / 非平衡 / 不安定 / 相共存 / 不均質性 / スティープスロープ
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、相転移材料VO2をチャネルとするトランジスタを用いることで、相転移を取り入れた低電圧動作トランジスタの理解を構築しようとしている。その中
で今年度は特に、長チャネルデバイスの基本的な物理を明らかにし、昨年度のチャンチャネルデバイスの特性とのつながりを明らかにすることを目的とした。
一昨年のデータによれば、長チャネルデバイスの特性が、VO2チャネルの相転移の不均質性によって、一部隠されていることが示唆された。そこでまずはVO2製膜条件の見直しを行い、より均質な相転移を実現することを目指した。その結果、基板をホルダーに取り付ける際の銀ペーストの焼成条件を改善し、製膜時の温度の制御性を改善することによって、相転移が均質化し、より急峻な相転移特性が得られることが分かった。このVO2チャネルを用いてトランジスタ特性を測定することで、相転移トランジスタの長チャネル特性を系統的に明らかにできると考えた。
まず相転移がより均質化したことで、より小さなゲート電圧で絶縁状態から金属状態まで変化させることができるようになり、ゲート誘起で3桁の抵抗変化を引き起こすことに成功した。これはゲート電圧降下が界面近傍のVO2だけでなく、チャネル全体のVO2を金属転移させていることの明確な証拠である。
様々なパラメータを変化させたところ、ドレイン電圧がスイッチング特性に劇的に影響することを発見した。詳細な実験・解析の結果、ドレイン電圧がある程度以上大きいところでは、わずかに残っていた相転移の不均質性が不安定化して、長チャネルデバイスであるにもかかわらずゲート電圧に対して完全に不連続なスイッチングを引き起こすことが明らかになった。さらに実験的に得られたこの伝達特性を、シミュレーションによって再現することに成功し、長チャネルデバイスの完全なデバイスモデルを構築することに成功した。

Research Progress Status

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (7 results)

All 2020 2019 Other

All Int'l Joint Research (1 results) Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (3 results) (of which Int'l Joint Research: 3 results,  Invited: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Int'l Joint Research] 北京科技大学(中国)

    • Country Name
      CHINA
    • Counterpart Institution
      北京科技大学
  • [Journal Article] Modulation of VO2 Metal-Insulator Transition by Ferroelectric HfO2 Gate Insulator2020

    • Author(s)
      Yajima Takeaki、Nishimura Tomonori、Tanaka Takahisa、Uchida Ken、Toriumi Akira
    • Journal Title

      Advanced Electronic Materials

      Volume: Early view Pages: 1901356~1901356

    • DOI

      10.1002/aelm.201901356

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High-speed low-energy heat signal processing via digital-compatible binary switch with metal-insulator transitions2019

    • Author(s)
      Yajima T.、Tanaka T.、Samata Y.、Uchida K.、Toriumi A.
    • Journal Title

      IEDM

      Volume: 19 Pages: 903-906

    • DOI

      10.1109/IEDM19573.2019.8993502

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] VO2 Mott Transistors for Low-Voltage ON/OFF Switching2020

    • Author(s)
      Takeaki Yajima
    • Organizer
      21th International Symposium on Eco-materials Processing and Design
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] High-speed low-energy heat signal processing via digital-compatible binary switch with metal-insulator transitions2019

    • Author(s)
      Takeaki Yajima
    • Organizer
      IEDM2019
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Impact of Scaling the VO2-Channel Mott Transistor below Material Correlation Length2019

    • Author(s)
      Takeaki Yajima
    • Organizer
      SSDM2019
    • Int'l Joint Research
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体デバイス2019

    • Inventor(s)
      矢嶋赳彬, 田中貴久, 内田建, 鳥海明
    • Industrial Property Rights Holder
      矢嶋赳彬, 田中貴久, 内田建, 鳥海明
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2019-204806

URL: 

Published: 2021-01-27  

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