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2018 Fiscal Year Annual Research Report

AlGaN/Diamond DUV Light Sources Fabricated by Direct Wafer Bonding

Research Project

Project/Area Number 17H06762
Research InstitutionMie University

Principal Investigator

林 侑介  三重大学, 地域イノベーション学研究科, 助教 (00800484)

Project Period (FY) 2017-08-25 – 2019-03-31
Keywordsダイヤモンド / AlGaN / AlN
Outline of Annual Research Achievements

紫外波長のレーザダイオード(LD)は、フォトリソグラフィや医療用途への応用が期待されているが、UV-C波長(200~280 nm)では電流注入型のLDは実現されていない。最も大きな障壁となっているのは、Al組成の高い窒化アルミウムガリウム(AlリッチAlGaN)ではp型導電性が非常に小さいことである。紫外発光素子における本質的な課題を解決するため、p側クラッド材料としてダイヤモンドを利用することを提案する。紫外領域で透明かつ高い導電性を示すダイヤモンドは高い適用性を示すが、結晶構造や物質係数が異なるために、従来の結晶成長法では良質な結晶を得ることは難しかった。本申請では、異種材料を室温で集積できる表面活性化接合を応用することで、高品質なp型ダイヤモンド/n型AlGaNヘテロ構造の実現を目指す。将来的には、未踏領域となっているUV-C波長帯LDへの展開が期待される。
本年度の取り組みにより、(1) 両面スパッタによるウェハ反り制御、(2) AlN/サファイア基板のウェハ接合、(3) ダイヤモンド基板の超精密研磨、(4) ダイヤモンド上AlNキャップ層の成膜の4項目を達成した。これらの実験結果をもとに、特許出願、論文投稿、学会発表を行った。
本年は実験に注力したためAlGaN/ダイヤモンド界面のバンド構造計算に十分取り組むことができなかった。既に第一原理計算によってAl極性AlNの場合はtype Iのバンドラインナップになることが他機関から報告されており、デバイス応用上望ましい結果が示唆されている。本研究ではウェハ接合による界面欠陥を考慮する必要があるため、これを含めてバンド構造の解析を進める。

Research Progress Status

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (7 results)

All 2019 2018 Other

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (3 results) (of which Int'l Joint Research: 3 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results)

  • [Journal Article] Curvature-Controllable and Crack-Free AlN/Sapphire Templates Fabricated by Sputtering and High-Temperature Annealing2019

    • Author(s)
      Y. Hayashi, K. Tanigawa, K. Uesugi, K. Shojiki, and H. Miyake
    • Journal Title

      J. Cryst. Growth

      Volume: 512 Pages: 131-135

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2019.02.026

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] High-Temperature Annealing of Sputter-Deposited AlN on Diamond Substrate2019

    • Author(s)
      T. Shirato, Y. Hayashi, K. Uesugi, K. Shojiki, and H. Miyake,
    • Organizer
      Compound Semiconductor Week 2019 (CSW 2019)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Fabrication of c-AlN/a-Sapphire Templates by Sputtering and High-Temperature Annealing2019

    • Author(s)
      Y. Hayashi, K. Fujikawa, K. Uesugi, K. Shojiki, and H. Miyake
    • Organizer
      Compound Semiconductor Week 2019 (CSW 2019)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Bowing Control of Sputtered AlN Caused by High Temperature Annealing2018

    • Author(s)
      Y. Hayashi, K. Tanigawa, K. Shojiki, and H. Miyake
    • Organizer
      19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE XIX)
    • Int'l Joint Research
  • [Remarks] 三重大学 オプトエレクトロニクス研究室 ホームページ

    • URL

      http://www.opt.elec.mie-u.ac.jp/index.html

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 窒化物半導体基板及び光半導体デバイス2019

    • Inventor(s)
      林侑介, 三宅秀人
    • Industrial Property Rights Holder
      林侑介, 三宅秀人
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2019-037838
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 窒化物半導体基板の製造方法および窒化物半導体基板2018

    • Inventor(s)
      林侑介, 三宅秀人
    • Industrial Property Rights Holder
      林侑介, 三宅秀人
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2018-164953

URL: 

Published: 2021-01-27  

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