2019 Fiscal Year Annual Research Report
Upgrading sputtering film deposition by controlling of powder target
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17K05102
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| Research Institution | Sasebo National College of Technology |
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Principal Investigator |
大島 多美子 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (00370049)
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| Project Period (FY) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| Keywords | 粉体ターゲット / スパッタリング / 混合粉体 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究は、スパッタリング法において一般的な固体ターゲットでは作製が困難な低融点有機材料及び多元素複合材料を安価で容易に作製する手法として粉体をそのままターゲットとして利用するスパッタリング法を提案した。
最終年度である令和元年度では、多元素複合材料としてZnOとAl2O3を用いて様々な混合比（ZnO:Al2O3=50:50～98:2 wt%）の粉体ターゲットによる透明導電性を有するAlドープZnO薄膜の作製を試み、以下のことを明らかとした。
（1）RF電力100 W，Arガス圧力0.3 Paの条件において、ZnO:Al2O3=90:10 wt%の混合粉体を用い基板温度を室温で作製したAZO薄膜では、ホール効果測定より本研究において最も低い抵抗率である1.4×10-3 Ωcmを得た。
（2）（1）と同じ条件において、ZnO: Al2O3=98:2 wt%の混合粉体を用い基板温度を400 ℃で作製したAZO薄膜では、紫外可視分光光度計により可視光域で80 %を超える光透過率を得た。
（3）混合粉体ターゲットに占めるZnOの混合量が多くなるに従い、ZnOの結晶性を有し低抵抗なAZO薄膜の作製が可能であることがわかった。
また、研究期間全体を通じて、①粉体の粒子径と薄膜堆積速度の関係、②固体ターゲットと粉体ターゲットを用いて作製した薄膜の結晶構造及び化学結合状態の比較、③粉体ターゲットを用いて安定した薄膜を作製するためのスパッタリング条件の検討、④異なる種類の粉体ターゲットによる膜特性の比較、⑤異なる種類の粉体を用いて作製する混合粉体に関する検討及び上記（1）～（3）について明らかとした。
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Research Products
(18 results)
