2018 Fiscal Year Research-status Report
高い反応性をもつシラノン錯体の合成とその構造および性質の研究
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17K05802
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| Research Institution | Gunma University |
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Principal Investigator |
上野 圭司 群馬大学, 大学院理工学府, 教授 (20203458)
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| Project Period (FY) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| Keywords | シランチオン錯体 / メタノリシス / 不飽和結合 / ケイ素―硫黄結合 / 陽イオン性錯体 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
シラノン錯体の硫黄類縁体であるシランチオン錯体として、初めての陽イオン性シランチオン錯体の合成に成功した。シリルスルファニル錯体Cp*(CO)3WSSiR2H ( Cp* = η5-C5Me5, R = Me (1), Ph (2))）とPh3CTFPB (TFPB- = B{3,5-(CF3)2C6H3}4-)をDMAP (DMAP = 4-Me2NC5H4N)共存下で反応させると，ケイ素上のHがPh3C+により引き抜かれ，ケイ素にDMAPが配位した陽イオン性シランチオン錯体[Cp*(CO)3W{S=SiR2.DMAP}]TFPB (R= Me (3), Ph (4))が得られた。錯体3および4はそれぞれ収率80および75%で単離できた。錯体3は単結晶X線結晶構造解析に成功し，短いSi=S結合，長いW-S結合を持つことなどの特徴が明らかになった。錯体4にMeOHを加えると，速やかに反応してメトキシシリルスルファニル錯体Cp*(CO)3WSSiPh2OMeおよび[H.DMAP]TFPBが得られた。遊離のシランチオンR2Si=Sとメタノールとの反応では，一般にメトキシシランチオールMeOR2SiSHが生成するが，錯体4の反応では対応するシランチオールは生成しない。
なお，陽イオン性シランチオン錯体の原料であるシリルスルファニル錯体Cp*(CO)3WSSiR2H (R = Me (1), Ph (2))は，Li[Cp*(CO)3WS]とR2SiHClとの反応により，中程度の収率で合成した。錯体1は単結晶X線結晶構造解析に成功し，長いW-S結合，単結合に相当するSi-S結合を持つことを明らかにしている。上記で述べたシランチオン錯体ではSi-S結合がかなり短縮しており，二重結合性を有することがデータから明らかになった。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
初めての陽イオン性シランチオン錯体の合成に成功し，その構造，反応性を明らかにできた。また，本成果を論文としてまとめ，出版した。シラノン錯体の研究も順調に推移しており、全体として順調に進展していると評価している。
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| Strategy for Future Research Activity |
研究は順調に進んでおり，このまま継続する。
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| Causes of Carryover |
研究が予定以上に順調に進展し，購入した消耗品が少なくてすむなどにより次年度使用額が発生した。次年度使用額は全額，2019年度分として請求した助成金と合わせて研究に使用する。
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