2006 Fiscal Year Annual Research Report
放射光X線マイクロプローブによるナノデバイス材料・界面の物性評価
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18063019
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| Research Institution | Japan Synchrotron Radiation Research Institute |
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Principal Investigator |
木村 滋 (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (50360821)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
田尻 寛男 (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門・構造物性Iグループ, 研究員 (70360831)
坂田 修身 (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門・表面構造チーム, 主幹研究員 (40215629)
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| Keywords | X繰回折 / 界面物性 / 薄膜 / シンクロトロン放射光 / 歪み / 微小領域 |
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| Research Abstract |
100nmレベルの空間分解能を持つ放射光X線マイクロプローブ技術を利用して、ポストスケーリングテクノロジーでの利用が期待されるナノデバイス材料・界面の物性評価を行う。具体的には,ビーム集光技術、高精度試料位置決め技術、試料測定位置モニタリング技術等の要素技術の高度化を行い、各種ナノデバイス材料・界面の微小領域に存在する歪や構造の評価を行う。また、X線の透過性を活かし、埋もれたナノ構造等の評価技術やデバイス動作下でのその場観察技術を確立することを目標とする。本年度は、以下の研究開発を行った。
1.既存高分解能マイクロX繰回折システムの改造
これまで、本システムはBL46XUで開発してきたが、分光器が水冷式のため、熱歪により放射光のコヒーレンス度が劣化する問題があった。そこで、本回折計の架台部分を改造し、液体窒素冷却分光器を備えたアンジュレータビームラインBL13XUで実験を行えるようにした。また、本システムを使いパターン加工されたSiGe/Siヘテロメサ構造の局所歪の測定に成功した。
2.逆格子マップ高速測定技術の開発
X線用CCD検出器を導入した。これにより、格子面間隔と格子面傾斜の分布を100nmの空間分解能で迅速に測定することが可能となる。
3.高エネルギーマイクロビーム形成技術の開発
埋もれたナノ構造をより効率的に測定するために、透過能のより高い高エネルギーX線(25keV)マイクロビーム形成技術を開発した。このため、ディープX線リソグラフィー技術で作製されるポリマー積層屈折レンズを導入した。
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