2009 Fiscal Year Annual Research Report
放射光X線マイクロプローブによるナノデバイス材料・界面の物性評価
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18063019
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| Research Institution | Japan Synchrotron Radiation Research Institute |
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Principal Investigator |
木村 滋 Japan Synchrotron Radiation Research Institute, 利用研究促進部門, 副主席研究員 (50360821)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
坂田 修身 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (40215629)
田尻 寛男 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (70360831)
今井 康彦 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (30416375)
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| Keywords | X線回折 / 界面物性 / 薄膜 / シンクロトロン放射光 / 歪み / 微小領域 |
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| Research Abstract |
平成21年度は、前年度に引き続き高分解能マイクロX線回折装置の高度化を推進するとともに、特定領域内連携研究を積極的に推進した。以下にその概要を記す。
1. 高分解能マイクロX線回折装置の高度化
(1) 仮想光源用高精度スリットの導入によるビームサイズの微細化:液体窒素冷却二結晶分光器の下流に高精度スリットを導入した。このスリットを仮想的な光源として用いることで、より小さなサイズのビームが得られるようになる。ゾーンプレートによる集光において、スリットサイズを横5μm、縦10μmとすることで、10keVのX線で、150nm(水平方向)、250nm(垂直方向)のビームサイズを実現した。
(2) X線CCD検出器による逆格子マップ測定迅速化:Photonic Science社製X-ray Imager VHRを高分解能マイクロX線回折装置に組み込み、回折計と連動した計測システムを構築した。その結果、逆格子マップ測定の大幅な迅速化を達成した。
(3) 直線偏光素子の導入による垂直偏光の実現と、垂直偏光の利用による高角反射の実用化:水平偏光の放射光を垂直偏光に変換するダイヤモンド移相子を導入し、鉛直回転軸の高分解能マイクロX線回折装置で20が90°付近の回折を測定可能にした。
2. 特定領域内連携研究の推進
特定領域内連携研究として、「選択エピタキシャル成長したサブミクロンサイズGe薄膜/Siの局所歪検出(A04班酒井グループ)」、「ローカル歪みSiのナノ領域歪み解析(A02班小椋グループ)」、「カーボンナノウォールの構造解析(A02班堀グループ)」、「Ge_<1-x>Sn_x/Ge/Si(001)の局所歪解析(A04班財満グループ)」を推進した。
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