2007 Fiscal Year Annual Research Report
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発
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18206017
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
森 勇蔵 Osaka University, 名誉教授 (00029125)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
山村 和也 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60240074)
佐野 泰久 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40252598)
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| Keywords | 液晶 / フォトマスク基板 / ウエットエッチング / プラズマ加工 / 精密研磨 / リソグラフィー |
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| Research Abstract |
2007年度の研究開発において得られた成果、知見を下記に示す。
(1)φ100mm超のノズルヘッドの開発を目標とし、差圧増加による吸引能力の向上を意図したφ122mmの加圧供給孔付3重同軸ノズルヘッドの開発に成功した。
(2)加工特性の安定化を図るため、走査加工中において常時ノズルヘッドと加工物表面との距離を一定かつ平行に維持する機構の開発を目標とし、ノズルー加工物間ギャップの変動を50μm以内に一定制御できる自動アライメント機構の開発に成功した。
(3)大型ガラス基板とダミー材との位置合わせを容易にする基板保持機構の開発を目標とし、20μm以内の精度で位置合わせが可能で重力変形の影響も受けない基板保持機構の開発に成功した。
(4)長時間加工において安定な加工特性を示すエッチャント組成の探索を目標とし、石英ガラスの加工においては33〜35wt%のフッ化水素酸溶液を適用することにより8時間以上にわたって10%以内のエッチングレートの変動に抑制できることを明らかにした。
(5)水晶振動子上に形成した膜の重量減を検出してエッチングレートをリアルタイムにモニターするセンサーの開発を目標とし、塗布する膜の選定ならびにピンホールならびにクラックが発生しない膜形成条件を得た。
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