2008 Fiscal Year Annual Research Report
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発
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18206017
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
森 勇蔵 Osaka University, 名誉教授 (00029125)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
山村 和也 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60240074)
佐野 泰久 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40252598)
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| Keywords | ローカルウエットエッチング / 数値制御加工 / フォトマスク基板 / 平坦度 / 石英ガラス |
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| Research Abstract |
数値制御ローカルウエットエッチング(NC-LWE)法の開発において、1バッチ加工内における加工特性の安定化、およびバッチ間の再現性を確保するため、エッチングレートをモニターし、一定に維持するためのシステムを開発した。エッチングレートのモニター手法としては、メインのエッチャント循環系から分岐したラインと小径ノズルヘッドを設置し、本ノズルヘッドを用いてモニター用のサンプルを一定時間ごとに加工し、各測定で得られたエッチング深さをライン型の変位センサを用いて測定して加工時間で除することによりエッチングレートを算出した。計測の安定性は±2%であった。エッチングレートを一定に維持するためのエッチャントの補給は、耐食性のチューブポンプの回転数を制御することにより行った。本システムの導入によりエッチングレートを土5%以内に制御することができた。
直径が125mmの大型ノズルを試作し、ノズル径内において均一な加工量分布を得た。また、本大口径ノズルを垂直に保持した基板に対して適用した場合においても、エッチャントが下方に垂れることなく走査することが可能であった。本結果により、1.5m角の大型石英ガラス基板を対象とした平坦度仕上げ加工において、1枚/1日のペースで行うという設定目標を達成する見込みが得られた。
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Research Products
(6 results)
