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2007 Fiscal Year Annual Research Report

環境調和型電子デバイス配線接合界面形成機構解析とその最適化

Research Project

Project/Area Number 18206076
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

高橋 康夫  Osaka University, 先端科学イノベーションセンター, 教授 (80144434)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 野城 清  大阪大学, 接合科学研究所, 教授 (40029335)
前田 将克  大阪大学, 先端科学イノベーションセンター, 助教 (00263327)
松坂 壮太  千葉大学, 工学部, 助教 (30334171)
Keywords環境調和 / パワーデバイス / インターコネクション / 化合物半導体 / 炭化珪素 / 窒化ガリウム / 配線接合 / 反応拡散
Research Abstract

ハイブリッドカーの駆動制御,風力発電制御に将来適用されると期待されている化合物半導体,炭化珪素(Sic),窒化ガリウム(GaN)の電極形成(インターコネクション形成)と,その周りの電気配線に適用される太線(アルミ太線ワイヤー及び銅リード)実装の機構解析を行った.
SiCインターコネクション形成に関しては,ショットキーバリヤを低下させオーミック特性を発現させる,τ_1(Ti_3SiC_2)相の均一な層生成界面反応メカニズムを解析した.示差熱分析を実施し,界面反応が生じる温度域を明確化し,熱処理温度,成膜組成を制御した.すなわち,TiAl3相形成した後,τ_1相を生成させる工程を選択する手法を提案し,反応拡散パスをコントロールする方法を提案し,τ_1相生成促進が可能であることを明らかにした.τ_1相はAl元素をTiとともに蒸着すると,均一形成しやすくなる事も明らかにした.SiCとの反応拡散よるτ_1相均質生成には,反応拡散パスのコントロールが本質的に重要であり,これらの証拠は,透過電子顕微鏡(TEM)観察と回折パターンから得ることができた.一方,Al無添加で,Ti,Si,Cの各種組成の単一層をSiCデバイス上に直接蒸着し,SiCとの反応なしでτ_1相を形成する方法に取り組んだ.蒸着した直後はアモルファス膜となっているが973Kで真空焼鈍すると,結晶化が生じることが判明した.しかしながら,TiC相,TiSi_2相のみの析出が生じ,τ_1相は形成しないことが判明した.したがって,第4元素ないしは高温熱処理が今後必要であると考えられる.
GaNインターコネクションに関しては,Ga面,N面へのTi蒸着では,拡散反応に違いがあることを発見した.また,NiはNとは反応しないが,数種のNi_xGa_y金属間化合物を反応拡散により形成することが示唆されるので,ボイドが界面反応過程で生じる事をTEM観察により明らかにした.
配線接合実装に関しては,軟質Al太線の超音波接合を実施し,その密着凝着機構(slipping and Folding Mechanism)を,その場観察により実証し,摩擦すべりを起こす接合中央部では,界面が縮むことを突き止めた.

  • Research Products

    (11 results)

All 2008 2007

All Journal Article (7 results) (of which Peer Reviewed: 7 results) Presentation (3 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Journal Article] Interfacial Reaction during Solid State Diffusion Bonding of Copper and Tin2008

    • Author(s)
      N. Inoue, T. Sato, M. Maeda, and Y. Takahashi
    • Journal Title

      Proc. of-14th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) Vol 14

      Pages: 335-338

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Ultrasonic Bonding of Copper and Tin2008

    • Author(s)
      N. Inoue, T. Sato, M. Maeda, and Y. Takahashi
    • Journal Title

      Proc. of 14th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) Vol 14

      Pages: 339-342

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Interfacial Microstructure between Gallium Nitride and Metallic Deposition Films2008

    • Author(s)
      M. Maeda and Y. Takahashi
    • Journal Title

      Proc. of 14th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) Vol 14

      Pages: 351-354

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Deformation Behavior of Wiring Metals during Ultrasonic Bonding2008

    • Author(s)
      Y. Yoneshima, H. Kitamura, M. Maeda, and Y. Takahashi
    • Journal Title

      Proc. of 14th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) Vol 14

      Pages: 347-350

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Formation of Ti3SiC2 Contact Layer Preventing Interfacial Reaction with SiC Substrate2008

    • Author(s)
      K. Takahashi, M. Maeda, N. Matsumoto, and Y. Takahashi
    • Journal Title

      Proc. of 14th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) Vol 14

      Pages: 339-342

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Ultrasonic bonding of Zr55Cu30Ni5Al10 metallic glass2008

    • Author(s)
      M. Maeda, Y. Takahashi, M. Fukuhara, X. Wang, A. Inoue
    • Journal Title

      Materials Science and Engineering B Vol 141

      Pages: 141-144

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Interfacial Reaction between SiC Single crystal and Ti/Al Multilayered Contact Films2007

    • Author(s)
      M. Maeda, K. Nonomura, Y. Takahashi and K. Tenyama
    • Journal Title

      Proc. 8th International Conference On Brazing High Temperature Brazing and Diffusion welding

      Pages: 84-87

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 太径ワイヤによる超音波配線接合プロセスのその場観察2007

    • Author(s)
      米島康弘, 前田将克, 高橋康夫
    • Organizer
      溶接学会秋季全国大会
    • Place of Presentation
      信州大学工学部
    • Year and Date
      2007-09-21
  • [Presentation] 炭化珪素単結晶とTi/Al多層コンタクト膜の界面反応制御2007

    • Author(s)
      前田将克, 高橋康夫, 野々村和政
    • Organizer
      溶接学会秋季全国大会
    • Place of Presentation
      信州大学工学部
    • Year and Date
      2007-09-20
  • [Presentation] CuとSnの固相接合における界面反応プロセス2007

    • Author(s)
      井上直人, 佐藤貴昭, 前田将克, 高橋康夫
    • Organizer
      溶接学会秋季全国大会
    • Place of Presentation
      信州大学工学部
    • Year and Date
      2007-09-20
  • [Patent(Industrial Property Rights)] Semiconductor Devices and Manufacturing Method Thereof2007

    • Inventor(s)
      高橋康夫, 他4名
    • Industrial Property Rights Holder
      大阪大学
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2007/069135
    • Filing Date
      2007-09-21
    • Overseas

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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