2007 Fiscal Year Annual Research Report
遺伝子発現制御の分子機構の解明を目的とした修飾ヒストン合成法の開発
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18310145
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
相本 三郎 Osaka University, 蛋白質研究所, 教授 (80029967)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
田嶋 正二 大阪大学, 蛋白質研究所, 教授 (50132931)
川上 徹 大阪大学, 蛋白質研究所, 准教授 (70273711)
末武 勲 大阪大学, 蛋白質研究所, 准教授 (80304054)
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| Keywords | ヒストン / メチル化 / 化学合成 / 翻訳後修飾 / 遺伝子発現 / メチル化リシン / ヒストンH3 / ライゲーション法 |
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| Research Abstract |
ヒストンH3の全合成を進めるに当たり,拡張型ラーゲーション法のための補助基が,合成ブロックを調製する際に用いるトリフルオロ酢酸処理により分解することが明らかとなった。そこで,この問題を抜本的に解決するために,1,3-チアジナン環を有する2種類の補助基をデザインし,その有効性について検討した。その結果,いずれの補助基も酸処理に対して安定で,また弱酸性条件下でメトキシアミン処理すると,チアジナン環を開環させることができることが判明した。また,2種類の補助基のうち,より疎水性の高い補助基を用いる方が合成ブロックの精製が容易であることも判明した。そこで合成ブロックとして,[Lys (Me_3)^9]-Histon(1-33)-Cys-Pro-OCH_2CONH_2,N,S-(Fmoc-NHCH_2CH)-(Dmmb)Gly-Histon(35-95)-Cys-Pro-OCH_2CONH_2,Histon(96-135)をFmoc固相法により調製した。まず,C末端側セグメントをnative chemicalligation法により縮合し,N,S-(Fmoc-NHCH_2CH)-(Dmmb)Gly- Histon(35-135)を得,さらにメトキシアミン処理することによりGly(Dmmb)- Histon(35-135)を得た。このものとN末端の[Lys(Me_3)^9]-Histon(1-33)-Cys-Pro-OCH_2CONH_2を拡張型ラオゲーション法により縮合させた。その結果,収率は低いものの目的とする[Lys(Me_3)^9]-Histon H3(1-135)が生成していることを質量分析法により確認することができた。
Dmmb:4,5-dimethoxy-2-mercaptobenzylamin
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Research Products
(9 results)
