| Research Abstract |
(1)ヒドリド(ヒドロシリレン)ルテニウム錯体の合成と極性分子との反応
タングステン錯体に続いて,今回ルテニウムのヒドリド(ヒドロシリレン)錯体の合成と構造解析に成功した。X線結晶構造解析等から,このルテニウム錯体ではタングステン錯体と異なり,ヒドリド-シリレン配位子間に相互作用は無いことがわかった。また,このルテニウム錯体はケトン,ニトリル等の極性分子と容易に反応し,ニトリルの場合には炭素-炭素結合の切断を伴い,シリルイソシアニド錯体をほぼ定量的に与えることがわかった。
(2)ハロシリレン白金錯体の合成と構造
ビス(ホスフィン)白金錯体とかさ高い置換基を持つトリブロモシランとの還元剤存在下での反応により,初めてのプロモシリレン白金錯体の合成に成功した。X線結晶構造解析の結果,この錯体の白金-ケイ素結合距離は非常に短く,またケイ素周りの結合角の和は360°でケイ素は平面構造をとっていることから,白金-ケイ素結合は二重結合であることが確認された。また,シリレン配位子上のプロモ基をメチル基に置換することにも成功した。
(3)アリール(シリレン)タングステン錯体とニトリルとの反応
アリール配位子およびシリレン配位子を持つタングステン錯体にニトリルを反応させたところ,タングステン上のアリール配位子がシリレンケイ素上へ1,2-転位し,生じたシリル配位子とタングステンとの結合にニトリルが挿入し,η^2-イミノアシル錯体が生成することを見出した。さらにこの錯体にニトリルを反応させると,もう1分子のニトリルの挿入が起こり,五員環メタラサイクルに変換されることがわかった。
(4)タングステン-ケイ素-リンからなる三員環メタラサイクルの合成
ホスフィノヒドロシランとメチル(カルボニル)タングステン錯体との光反応により,標記メタラサイクルの合成に成功した。この錯体は,以前合成した鉄誘導体と比べて,極性分子に対する反応性がずっと低いことを明らかにした。
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