2006 Fiscal Year Annual Research Report
感性創発支援機能と形状高品位化機能をもつデジタルスタイルデザインシステムの開発
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18360080
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| Research Institution | Keio University |
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Principal Investigator |
青山 英樹 慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (40149894)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
松岡 由幸 慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (20286636)
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| Keywords | スタイルデザイン / 感性 / 意匠設計 / ハイライトライン / キャラクタライン / 曲率 / スケッチ |
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| Research Abstract |
平成18年度では,以下の成果(実績)が得られた.
(1)サブシステムA:基本スタイル構築のための基本システムの開発
・アンケートのクラスタ分析に基づき,製品コンセプト・イメージを表現する自然言語(感性言語とよぶ)を抽出し,因子分析より因子負荷量とスタイルパラメータをニューラルネットワークでモデル化した.
・デザイナが描くラフスケッチを描画筆圧,描画速度,描画加速度,スケッチ線曲率変化情報を基に清書する実用的な手法・アルゴリズムを開発した.
(2)サブシステムB:詳細スタイル構築のための基本システムの開発
・基本スタイルモデルに対して簡便なマウス操作によりキャラクタラインを付与し,そのパラメータ値の変更によりキャラクタラインを修正するアルゴリズムを開発した.
・ラピッドプロトタイピングで実モデルを試作し,シースルーヘッドマウントディスプレイで見えている実モデル上に仮想モデルを重ねて表示し,デザインを評価するアルゴリズムを開発した.
(3)サブシステムC:ハイライトラインに基づくスタイル整形のための基本システムの開発
・液晶タブレットディスプレイにモデルとそのハイライトラインを表示し,要求するハイライトを液晶タブレットディスプレイ上で専用ペンにより直接入力し,モデルの形状を自動的に要求ハイライトラインが得られるように整形するアルゴリズムを開発した.
(4)サブシステムD:曲率変化制御に基づくスタイルの評価と高品位化のための基本システムの開発
・曲率の変化により曲線を評価し高品位化するため,曲線セグメントの曲率分布を分析し,曲率成分とそれぞれの曲率線分の曲線長の関係が線形になるように曲線を高品位化するアルゴリズムを開発した.
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