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2007 Fiscal Year Annual Research Report

ナノグラニュラー構造を有する次世代無機エレクトロルミネッセンス薄膜材料の創製

Research Project

Project/Area Number 18360338
Research InstitutionResearch Institute for Electric and Magnetic Materials

Principal Investigator

阿部 世嗣  Research Institute for Electric and Magnetic Materials, 光学材料グループ, 主任研究員 (20202666)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 大沼 繁弘  (財)電気磁気材料研究所, 薄膜材料グループ, 主任研究員 (50142633)
大沼 正人  (独)物質・材料研究機構, 量子ビームセンター, 研究員 (90354208)
Keywordsナノグラニュラー構造薄膜 / 半導体 / 酸化物 / 量子サイズ効果 / エレクトロルミネッセンス / 複合材料 / ナノ粒子 / 無機
Research Abstract

本年度も引き続き,半導体ナノグラニュラー薄膜の創製を目指すと共に,前年度において得られた有望な材料について,ナノ粒子およびマトリクスの最適化と粒径サイズ均一化の検討を行った.さらに,前年度の機能性酸化物をマトリクスとした際に新奇機能の発現が観測された場合,新しいデバイス概念の創出や既存デバイス代替調査を行い,当該薄膜材料の応用化の可能性についても検討を行った.1.Geナノ粒子を酸化物マトリクス中に分散させた複合材料薄膜において,Ge粒径サイズの均一化の検討を行うために,TiO_2をマトリクスとして薄膜作製を行った.その結果,Geの平均粒径サイズが約4mmである場合のサイズ分布は2〜14mmの間で大きく変化した.これに対して,先の研究において検討を行ったAl酸化物をマトリクスとした場合,粒径サイズ分布は±1mm以下に制御された.したがって,マトリクスとしてAl酸化物がより均一なGeナノ粒子粒径分布をもたらすことが明らかになった.次に,Ge/Al-O膜の発光特性を検討するために,rfスパッタリング法によりSi基板上に当該薄膜を作製し,950℃において1時間熱処理を行った.その結果,当該薄膜の室温におけるフォトルミネッセンススペクトルは〜3.0eV付近にブロードなピークを有することが明らかになった.これは、Ge酸化物に関係した欠陥を起源とする発光であると考えられる.2前述のTio2をマトリクスとし,Ge濃度を6〜8at%とした場合,アナタース構造が支配的なマトリクスを形成することが明らかになった.この構造は、半導体ナノ粒子を用いた次世代太陽電池のマトリクス構造として適しており,Ge微量添加によりマトリクス構造を制御できることが明らかにした.

  • Research Products

    (7 results)

All 2008 2007

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (4 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results)

  • [Journal Article] Microstructure of Ge:Ta2O5 Granular thin films:Application of TEM-Tomography2007

    • Author(s)
      H. Gao, S. Toh, S. Matsumura, Seishi. Abe, S. Ohnuma
    • Journal Title

      Materials Transactions 48

      Pages: 2567-2571

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] スパッタリング法による可視光吸収性anatase型Ge/TiO_2薄膜の作製2008

    • Author(s)
      阿部 世嗣, 大沼 繁泓
    • Organizer
      日本金属学会春期大会
    • Place of Presentation
      武蔵工業大学
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] Ge/TiO_2薄膜のナノグラニュラー構造と固溶体マトリクス形成2008

    • Author(s)
      阿部 世嗣、大沼 正人、平徳 海、大沼 繁弘
    • Organizer
      日本金属学会春期大会
    • Place of Presentation
      武蔵工業大学
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] スパッタリング法による新規Ge/M-O(Al or Ta)薄膜とその機能性2007

    • Author(s)
      阿部世嗣,大沼正人,大沼繁弘
    • Organizer
      日本金属学会秋期大会
    • Place of Presentation
      岐阜大学
    • Year and Date
      2007-09-20
  • [Presentation] X線小角散乱法による半導体ナノ粒子膜の微細構造解析2007

    • Author(s)
      大沼正人,平徳海,阿部世嗣,大沼繁弘
    • Organizer
      日本金属学会秋期大会
    • Place of Presentation
      岐阜大学
    • Year and Date
      2007-09-20
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 光電子素子用薄膜材料の製造方法2008

    • Inventor(s)
      阿部 世嗣、大沼 繁弘
    • Industrial Property Rights Holder
      (財)電気磁気材料研究所
    • Industrial Property Number
      特許権特願2008-95534
    • Filing Date
      2008-03-04
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 強磁性薄膜材料とその製造方法2008

    • Inventor(s)
      阿部 世嗣、大沼 繁弘
    • Industrial Property Rights Holder
      (財)電気磁気材料研究所
    • Industrial Property Number
      特許権特願2008-95533
    • Filing Date
      2008-03-04

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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