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2009 Fiscal Year Final Research Report

Nano-chemical modification of diamond surfaces by a probing method in controlled atmosphere

Research Project

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Project/Area Number 18360348
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

Allocation TypeSingle-year Grants
Section一般
Research Field Material processing/treatments
Research InstitutionThe University of Tokyo

Principal Investigator

MITSUDA Yoshitaka  The University of Tokyo, 生産技術研究所, 教授 (20212235)

Co-Investigator(Renkei-kenkyūsha) KUZUMAKI Toru   (50396909)
Project Period (FY) 2006 – 2009
Keywordsダイヤモンド / 表面 / ナノ化学修飾 / 終端元素
Research Abstract

Scanning probe microscopy was utilized for controlling the surface termination of diamond by current-induced chemical modification. Stabilities of hydrogen- and oxygentermination were analyzed in ultrahigh vacuum. Conditions for diamond nucleation and hydrogen termination were discussed on the basis of in-situ plasma analyses in microwave plasma chemical vapor deposition. Surface electric conduction layer caused by hydrogen termination was converted to insulating layer after treatment by tunneling current.

  • Research Products

    (17 results)

All 2010 2009 2008 2007 2006 Other

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (15 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition2009

    • Author(s)
      K. Nose, Y. Mitsuda
    • Journal Title

      Proceedings of the 19th International Symposium on Plasma Chemistry No. 541

      Pages: 1-4

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] InAlAs/InGaAs多重量子井戸ヘテロ界面2次元電子系からの電界電子放出2010

    • Author(s)
      板倉祥哲, 松本益明, 福谷克之, 岡野達雄, 平川和彦, 野瀬健二, 光田好孝, 谷口昌宏, 西川治
    • Organizer
      17a-Za-1第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      東海大学 (神奈川)
    • Year and Date
      2010-03-17
  • [Presentation] 気相合成ダイヤモンド粒子からの電子放出の面内分布2010

    • Author(s)
      野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      18p-TV-10第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      東海大学 (神奈川)
    • Year and Date
      2010-03-15
  • [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算2009

    • Author(s)
      野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第23回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      千葉工業大学 (千葉)
    • Year and Date
      2009-11-19
  • [Presentation] H2Sガスを用いたSドープ多結晶ダイヤモンド膜の作製2009

    • Author(s)
      藤田龍平, 野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第23回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      千葉工業大学 (千葉)
    • Year and Date
      2009-11-18
  • [Presentation] マイクロ波プラズマCVDにおけるダイヤモンド核形成環境2009

    • Author(s)
      野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第6回ヤングメタラジスト研究交流会
    • Place of Presentation
      東京工業大学 (東京)
    • Year and Date
      2009-10-22
  • [Presentation] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition2009

    • Author(s)
      K. Nose, Y. Mitsuda
    • Organizer
      International Symposium on Plasma Chemistry
    • Place of Presentation
      Bochum. Germany
    • Year and Date
      2009-07-30
  • [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性2009

    • Author(s)
      野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第56回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      筑波大学 (茨城)
    • Year and Date
      2009-04-01
  • [Presentation] 立方晶窒化ホウ素への置換型不純物が形成するエネルギー準位の計算2008

    • Author(s)
      野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第22回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      早稲田大学 (東京)
    • Year and Date
      2008-10-21
  • [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrate in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond2008

    • Author(s)
      K. Nose, Y. Mitsuda
    • Organizer
      17th World Interfinish Congress
    • Place of Presentation
      Busan, Korea
    • Year and Date
      2008-06-17
  • [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a microwave-plasma chemical vapor deposition2008

    • Author(s)
      Y. Mitsuda, K. Nose
    • Organizer
      17th World Interfinish Congress
    • Place of Presentation
      Busan, Korea
    • Year and Date
      2008-06-16
  • [Presentation] ダイヤモンド核生成環境における照射イオンのエネルギー及びフラックスの定量化2008

    • Author(s)
      野瀬健二, 諏訪剛史, 光田好孝
    • Organizer
      表面技術協会 第117回講演大会
    • Place of Presentation
      日本大学 (津田沼)
    • Year and Date
      2008-03-12
  • [Presentation] H2SによるSドープCVD多結晶ダイヤモンド膜の結晶性と電気伝導2008

    • Author(s)
      諏訪剛史, 野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第55回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学 (船橋)
    • Year and Date
      2008-03-07
  • [Presentation] H2Sを用いたCVD多結晶ダイヤモンド薄膜へのイオウドーピング2007

    • Author(s)
      諏訪剛史, 野瀬健二, 光田好孝
    • Organizer
      第21回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      長岡技術科学大学 (長岡)
    • Year and Date
      2007-11-21
  • [Presentation] 高圧プラズマCVD環境における負バイアス基板へのイオンエネルギー分布の理論予測2007

    • Author(s)
      野瀬健二, 諏訪剛史, 光田好孝
    • Organizer
      第21回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      長岡技術科学大学(長岡)
    • Year and Date
      2007-11-21
  • [Presentation] 酸素終端ダイヤモンド表面からの脱離過程2006

    • Author(s)
      新沢慶介, 葛巻徹, 光田好孝
    • Organizer
      第20回ダイヤモンドシンポジウム
    • Place of Presentation
      東京大学 (東京)
    • Year and Date
      2006-11-21
  • [Remarks] 毎年5月末-6月初旬に開催される「駒場リサーチキャンパス公開」において、研究成果を公開した。

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Published: 2011-06-18   Modified: 2016-04-21  

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