2008 Fiscal Year Final Research Report
Reduction of resistance of ZnO film by the microwave surface wave hydrogen plasma
Project/Area Number |
18560025
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 一般 |
Research Field |
Thin film/Surface and interfacial physical properties
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Research Institution | Toyo University |
Principal Investigator |
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
YOSHIDA Yasuhiko 東洋大学, 工学部, 教授 (80134500)
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Project Period (FY) |
2006 – 2008
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Keywords | 低抵抗ZnO薄膜 / 透明導電膜 / マイクロ波表面波 / H_2 プラズマ / P型ZnO |
Research Abstract |
通常ZnOは化学量論比上の結合では、透明で高い電気的絶縁性を持っている。イオンプレーティング法で形成されたZnO膜にマイクロ波表面波(1000W)で励起したH_2 プラズマを30(sec)程度照射する事で、膜の可視領域における光学的透過率を下げることなく、また他の種々な金属元素をドープすることなく電気的な抵抗率を~10^<-3>(Ωcm)まで下げる事ができた。よってZnOの透明導電膜としての新しい応用が可能である。
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[Presentation] Plasma polymerization of Tween2006
Author(s)
Y. SASUGA, F. W. SHI, A. SHOJI, D. S. KUMAR, K. KASHIWAGI, Y. YOSHIDA
Organizer
20", The 4^<th>International Symposium on Bioscience and Nanotechnology(P-48, p.81)
Place of Presentation
OkinawaConvention Centre, Ginowan, Okinawa
Year and Date
20061107-08
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[Presentation]
Author(s)
S.UMAHASHI, K.KASHIWAGI, H.MORITA, A.KUROKOUCHI , K.WADA