2006 Fiscal Year Annual Research Report
固体フッ素化剤-シリコン界面固相反応を用いたシリコン表面の形状創成加工の研究
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18560104
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Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
打越 純一 大阪大学, 大学院工学研究科, 助手 (90273581)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
森田 瑞穂 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (50157905)
有馬 健太 大阪大学, 大学院工学研究科, 助手 (10324807)
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| Keywords | フッ素化剤 / シリコン / エッチング / 固相反応 / 界面 / 形状創成 / 近赤外光 / 干渉計 |
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| Research Abstract |
本研究は、シンクロトロン放射光用ミラーなどに用いられる単結晶シリコンミラーの形状創成加工を、シリコン表面にフッ素化剤を塗布した後、光を照射して固相反応でエッチングを行うことにより実現しようとするものである。固相反応で加工することができれば、目的形状に創成加工を行なった後、シリコンが透明な波長1310nmの近赤外干渉計で形状計測を行いながら加工できるので容易に形状修正加工が行え、高精度な創成加工を行なうことができる。以下に本年度の研究実績の概要を示す。
1)加工前のシリコン表面を超清浄洗浄するとともにフッ素化剤の塗布を容易にするため、超精密加工研究拠点のウルトラクリーンルーム内のクリーンドラフトチャンバーでトータル室温洗浄プロセスを行った。
2)固体フッ素化剤を溶媒に溶解し、シリコン表面にフッ素化剤膜を塗布して洗浄条件と塗布特性、溶解度と塗布特性の関係を調べた。
3)シリコン表面にフッ素化剤膜を塗布して洗浄条件と塗布特性の関係を調べた。
4)固体フッ素化剤薄膜を塗布したシリコンに光を照射し、フッ素化剤の固相反応によりシリコン表面のエッチング加工を行った。
5)フッ素化剤を剥離し、位相シフト干渉顕微鏡を用いて加工痕形状の観察し、光照射によりシリコン表面が加工されていることを確かめた。
6)各波長域の光を照射し加工の波長依存性を調べた。
7)形状計測を行う近赤外干渉計の測定再現性がPV値で32nm以下、RMS値で0.55nm以下であることを確かめた。
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