2007 Fiscal Year Annual Research Report
ナノ周期積層膜を記録媒体とする超高密度トライボメモリーの基礎研究
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18560140
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| Research Institution | Nippon Institute of Technology |
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Principal Investigator |
三宅 正二郎 Nippon Institute of Technology, 工学部, 教授 (70229813)
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| Keywords | トライボロジー / データストーレージ / ナノ材料 / 原子間力顕微鏡 |
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| Research Abstract |
1超高密度記録用ナノ周期積層膜の形成とナノ機械特性評価
(1)ナノ周期積層膜および極薄ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜の形成:情報を記録する媒体として物性の異なった層を積層したナノ周期積層膜として(Si/C)、(C/BN)、(C/Au)膜を形成した。ここで(Si/C)、(C/BN)膜についてたは1nm膜厚の積層膜を取り上げている。さらに1nm以下の膜の物理特性を明らかにするため目標膜厚0.01〜1nmに変化させたDLC膜を新た取り上げた。
(2)薄膜のナノ機械特性評価:ナノ周期積層膜,極薄DLCについて原子間力顕微鏡(AFM)を用い,ナノインデンテーション,マイクロ摩耗等のナノメータスケールの評価を進めている。
2超高密度記録のためのナノ加工特性の検討
(1)導電性加工工具(チップ)よるナノ加工:昨年度実現したボロンドープダイヤモンドおよび導電性カーボンナノチューブ(CNT)チップを用い放電とトライボ作用を併用したエレクトロ・トライボケミカルナノ加工について更なる微細化を進めるためDLC膜についてナノ加工特性を評価した。電圧付与により試料の隆起と摩擦、電流像の関係を明らかした。
(2)積層膜の加工:(1)原子間力顕微鏡(AFM)でダイヤモンドチップを用いてナノ周期積層膜の境界部の欠陥進展防止効果を活用し、(C/BN)ナノ周期積層膜につづき(Si/C)膜についても1層以下の機械加工を実現した。しかしこの場合、塑性変形よる加工範囲の増大が見られた。
3記録情報の再生法の検討
ナノ周期積層膜の積層単位に加工された情報を再生する方法として、(1)形状差、(2)摩擦力の差、(3)電流分布の差を評価し、極薄DLC膜および(C/BN)(Si/C)系のナノ周期積層膜について加工部との差を評価できた。
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Research Products
(12 results)
