2006 Fiscal Year Annual Research Report
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18560249
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Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Research Institution | Wakayama University |
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Principal Investigator |
土谷 茂樹 和歌山大学, システム工学部, 教授 (30283956)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
三輪 昌史 徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 講師 (40283957)
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| Keywords | 可変焦点レンズ / ソフトアクチュエータ / イオン導電性高分子 / IPMC |
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| Research Abstract |
提案した可変焦点レンズの製作にあたり最も重要な製作プロセスは、1.レンズ形状のイオン交換膜の作製(イオン交換膜の成型)、2.イオン交換膜へのパターン電極の形成、の2点である。
1.イオン交換膜の成型:イオン交換樹脂として柔軟で変形が大きなナフィオン【○!R】(デュポン社製)を使用し、次の2方法でイオン交換膜の成型実験を行った。(1)ホットプレスにより顆粒状ナフィオンを加熱加圧成型する実験を行い、必要な押圧力・加熱条件を求めた。平面状イオン交換膜の成型は達成したが、曲面状の膜への成型では圧力分布の調整が難しく断念した。(2)凹面状基板に溶液状ナフィオン滴下、乾燥することによるレンズ形状のイオン交換膜の成型を行った。
2.イオン交換膜へのパターン電極の形成:イオン交換膜を部分的にマスクして選択的な無電界めっきを施し、金のパターン電極形成を行った。所定形状のプラスチック板をイオン交換膜に密着させマスクとする方法(固体マスク法)、フォトレジストをマスクとする方法(レジストマスク法)、マスク蒸着やフォトレジスト加工で形成した金属薄膜パターンをマスクとする方法(金属薄膜マスク法)の3つを検討した。固体マスク法では、イオン交換膜とマスクの密着性が重要であり、ライン/スペースが2mm/2mmのパターン電極を形成できた。レジストマスク法では、レジスト塗布後のイオン交換膜のそり、現像やめっき時のイオン交換膜の膨潤が問題となり、今後はドライプロセスを試みる。金属薄膜マスク法では、めっき時のイオン交換膜の膨潤による金属薄膜の剥離やめっき液への溶解の防止が課題となったが、ライン/スペースが1mm/1mm以下のパターン電極を形成できた。今後、薄膜材料、成膜条件及びめっき条件の最適化を図り、より微細なパターン電極作製を試みる。
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