2007 Fiscal Year Annual Research Report
光アシステッド磁気記録用磁性複合膜(高速昇温結晶化FePt微粒子/光磁気記録膜)
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18560347
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| Research Institution | Nihon University |
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Principal Investigator |
伊藤 彰義 Nihon University, 理工学部, 教授 (60059962)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
中川 活二 日本大学, 理工学部, 教授 (20221442)
大月 穣 日本大学, 理工学部, 准教授 (80233188)
塚本 新 日本大学, 理工学部, 講師 (30318365)
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| Keywords | 光アシステッド磁気記録 / FePt / 磁性複合膜 / 急速昇温結晶化法 / 自巳組織化 / 多孔質Si / ナノテンプレート / 磁壁ピンニング |
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| Research Abstract |
1平方インチ当り1テラビット(1Tb/in^2)以上の超高密度記録可能で熱的にも安定な光アシステッド記録媒体実現を目指し、高い磁気異方性を有する自己配列化微小FePt結晶粒上に希土類遷移金属(RE-TM)非晶質連続膜を積層した磁性複合膜について検討した。
上記目的に対し前年度課題となった事項に関する主な成果は以下の通りである。
1)規則配列ナノ凹凸下地用2次元自己配列極微小空孔SiO_2薄膜の作製
トリブロックコポリマーの自己組織化現象により形成したナノミセルを含む溶液をスピンコート法により基板上へ塗布する際、溶液をエタノール希釈することにより、ほぼエタノール量に逆比例し薄膜化が可能であることを明らかにした。ミセル混合溶液中のエタノール量が99.2wt%のとき、熱処理後の膜厚は約13nmとなり、面内空孔間隔約14nm、ほぼ単空孔層相当の膜を得ることができた。
2)FePt垂直磁化微小結晶粒膜のキュリー温度低減
キュリー温度Tcが約500℃であるFePt結晶粒に、第3元素として約20at%のCu、Niを添加することで、それぞれ約160℃、270℃へTcの低減が可能であることを確認した。また、結晶配向、結晶粒径の添加量依存がそれぞれ異なる特徴を有することを明らかにした。
3)複合膜磁化構造のマイクロマグネティクスシミュレーション
FePt微粒子/TbFeCo光磁気記録膜複合構造とすることで、TbFeCo単層膜では強い磁壁収縮力により形成不可能な直径約22nmの極微小磁区を形成できることを明らかにした。本結果より、TbFeCo単層膜における理論平面磁壁幅よりも狭い6nm周期の稠密FePt微粒子下地においても磁壁ピンニング点として良好に作用し、磁壁抗磁力増大へ寄与することが明らかとなった。
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