2007 Fiscal Year Annual Research Report
雰囲気制御粉砕とインターカレーション反応を用いたナノ構造グラファイトの生成
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18560718
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| Research Institution | Muroran Institute of Technology |
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Principal Investigator |
空閑 良寿 Muroran Institute of Technology, 工学部, 教授 (60183307)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
藤本 敏行 室蘭工業大学, 工学部, 准教授 (40333661)
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| Keywords | 黒鉛 / グラファイト / 粉砕 / 比表面積 / 結晶性 / 層間化合物 |
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| Research Abstract |
従来法による天然グラファイトの粉砕では,微小粒子を得るため,長時間粉砕を行うことにより,グラファイト固有の優れた結晶構造が破壊されてしまい,その結晶構造に由来する機能性(電気伝導性,層状結晶内にゲスト分子を取り込む能力など)を阻害してしまう欠点がある。我々のこれまでの研究からわかった,天然グラファイトの乾式粉砕における粉砕雰囲気が,粉砕速度に大きな影響を及ぼすことに加えて,微小ビーズを大量に用いた粉砕によるマイルドな粉砕条件が存在することを本研究により見出した。これにより,高結晶性とナノ構造化(高比表面積)を両立させたグラファイト粒子の製法を開発した。つぎに,調整した高比表面積かつ結晶性の高いグラファイト粒子を用いて,従来合成が困難であった液相法でPtCl_4-グラファイト層間化合物を合成に成功した。さらに本サンプルを還元し,貴金属原子Ptをゲスト剤としてもつ触媒材料として,その反応特性を評価し,その有用性を確認した。また,高結晶性とナノ構造化(高比表面積)を両立させたグラファイト粒子にPt粒子を担持させた触媒を作成したところ従来の触媒よりも活性が高い条件を得た。
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Research Products
(4 results)
