2006 Fiscal Year Annual Research Report
ヘアピンフォールドの生成・消滅による主鎖型液晶エラストマーの異常な大変形伸縮挙動
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18655091
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
渡邊 順次 東京工業大学, 大学院理工学研究科, 教授 (90111666)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
川内 進 東京工業大学, 大学院理工学研究科, 助教授 (80204676)
戸木田 雅利 東京工業大学, 大学院理工学研究科, 助手 (30301170)
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| Keywords | 主鎖型液晶性高分子 / 液晶エラストマー / エラストマー / 架橋 / 折りたたみ鎖 / スメクチック液晶エラストマー / ネマチック液晶エラストマー |
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| Research Abstract |
ネマチック液晶性を示す主鎖型液晶高分子に、架橋剤として1,3,5-ベンゼントリカルボン酸を導入してエラストマーを調製した。架橋密度は、液体状態での弾性率(E)を求め、E=3RTρ/M_sの式を用い算出した.その結果,架橋剤を1mol%-10mol%まで含む、架橋度の異なる数種のエラストマーが原料仕込み量によって定量的に合成できることを確認した。エラストマーの力学物性等の物性評価のための平板状重合テフロン容器を開発し、その平板容器上で重合させ、25cm^2のサイズの良好なフィルム状エラストマーを調製した.この重合容器を超電導高磁場中に置き、配向液晶場で重合し,高度に配向したエラスマーを調製した.架橋点を含むことで、液晶場が大いに影響を受けることが考えられる。架橋点の周囲には配向の乱れが誘起されるためであるが,架橋剤濃度を数mol%以下に抑えれば、基本的に架橋のない高分子とほとんど同一の相挙動、相転移温度、そしてほぼ100%の液晶化度(転移のエンタルピーから求まる)を示すことを確認した。
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