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2007 Fiscal Year Annual Research Report

デバイス設計の自由度を向上させる構造を有する縦型トランジスタに関する研究

Research Project

Project/Area Number 18656099
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

遠藤 哲郎  Tohoku University, 電気通信研究所, 准教授 (00271990)

Keywords縦型トランジスタ / 集積回路 / 電子デバイス / ナノデバイス / 立体構造デバイス / デバイスシミュレーション / CAD / LSI
Research Abstract

本年度の目的は、埋め込みゲート縦型トランジスタの静的デバイス特性に対するデバイス設計理論を確立することである。これらの多岐にわたるデバイス設計パラメータと種々のデバイス特性・デバイスサイズに対する相関関係を効率よく解明するために、初年度に取得した当該デバイス特性の基礎データに基づき、研究探査の方針を決定した。
前年度に確立したモンテカルロデバイスシミュレーションシステムを用いて、本提案の埋め込みゲート縦型トランジスタのトランジスタ特性、特に静的動作時における特性とデバイスサイズに関するデータベースを構築した。具体的には、各種デバイス設計パラメータに対する埋め込みゲート縦型トランジスタのしきい値、Sファクタ、駆動電流、カットオフリーク電流などの基本的なデバイス特性の依存性を定量的に解析した。次に、このデータベースを用いて、埋め込みゲート縦型トランジスタのデバイス特性を向上させるために要求される各種のデバイス設計パラメータの相互関係を定量的に明らかにした。さらに、デバイスサイズの微細化に要求される各種のデバイス設計パラメータの縮小率も併せて定量的に明らかにした。
上記の結果を総合的に分析・解析することによって、静的特性(DC特性)における埋め込みゲート縦型トランジスタによる性能向上の効果と負荷削減の効果を定量的に解析し、静的動作における当該デバイスの設計理論を提案した。また、あわせて、埋め込みゲート縦型トランジスタのレイアウト技術も構築した。

  • Research Products

    (2 results)

All 2007

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (1 results)

  • [Journal Article] Study of Self-Heating in Si Nano Structure for Floating Body-Surround Gate Transistor with High-k Dielectric Films2007

    • Author(s)
      Tetsuo Endoh and Kousuke Tanaka
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics Vol.46, No.5B

      Pages: 3189-3192

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Analysis of the Dependency of Body Thickness on the Performance of the Nano-Scale Vertical MOSFET2007

    • Author(s)
      Yuto Norifusa and Tetsuo Endoh
    • Organizer
      IEEE, IMFEDK2007
    • Place of Presentation
      大阪
    • Year and Date
      2007-04-23

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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