2006 Fiscal Year Annual Research Report
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18750093
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
芝崎 祐二 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (90323790)
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| Keywords | ArFリソグラフィー / ビニルスルホンアミド / ポリマー / フォトレジスト |
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| Research Abstract |
18年度は各種ビニルスルホンアミドの合成、重合、及びビニルスルホンアミドとの共重合を行った。
アルキルビニルスルホンアミドはクロロエタンスルホン酸クロライドと種々のアミンを反応させることで二重結合とスルホンアミドの生成を同時に行い合成した。この反応では、目的とするアルキルビニルスルホンアミドの他に、アミンの二重結合への付加であるマイケル付加対が副生成物として得られた。これは、カラムクロマトグラフィーにより取り除くことが可能であった。
合成したモノマーは、アルキル基に、アダマンチル、1,1,1-トリフルオロエチル基である。重合は工業的に有用なフリーラジカル重合にて行った。アダマンチル置換ビニルスルホンアミドの場合、立体障害ほとんど重合が進行しなかった。後者は問題なく重合し、分子量5万程度のポリマーが得られた。レジストとして評価する場合、数平均分子量は低いほど解像性がよいので、低分子量化の検討を行い、最終的に分子量は5千程度になった。
レジスト特性として、基板との密着性があげられる。そこで、無置換のビニルスルホンアミドを合成し、上記得られたモノマーとの共重合を検討した。この場合にもやはり、アダマンチル置換モノマーは反応性が悪く共重合しなかった。一方、トリフルオロエチル基を有するモノマーは共重合することが可能であった。今後、製膜性、露光評価などを検討する。
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