2006 Fiscal Year Annual Research Report
液体原料直接噴霧型有機金属化学気相堆積法の開発及び薄膜作製への応用
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18860075
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| Research Institution | Tokyo University of Science, Suwa |
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Principal Investigator |
王谷 洋平 諏訪東京理科大学, システム工学部, 助手 (40434485)
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| Keywords | 結晶成長 / 電子・電気材料 / 光スイッチ / セラミックス / 薄膜 |
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| Research Abstract |
これまでに研究代表者が確立したカクテル原料を用いたスプレーMOCVD法によるPZT薄膜堆積法をPLZT薄膜堆積法へと展開させた。適当な原料仕込み組成に調製したPZT薄膜作製用のカクテル原料を用いることで、香水用アトマイザーとホットプレートを使用した簡便な実験装置を用いて良好な特性を示す強誘電体PZT薄膜の形成に成功していたが、本年度は、カクテル原料の使用が困難な酸化物薄膜堆積にもスプレーMOCVD法の適用範囲を広げることが可能であることを実証すべく、複数台の香水用アトマイザーを使用したPLZT薄膜堆積に関する検討を行った。薄膜堆積系ならびに薄膜焼結系の構築を行った後に、PZT用カクテル原料とLa原料を複数台の香水用アトマイザーを用いて個別に噴霧供給することにより、高度に組成制御したPLZT薄膜を形成した。XRDにより結晶構造を示すと共に、電気特性評価を行いPLZT特有のD-Eヒステリシス特性を示すことにより、良好なPLZT薄膜の形成を示した。これにより複数台の香水用アトマイザーを用いたスプレーMOCVD法による薄膜堆積法の有効性を示した。なお、本研究結果により第19回日本セラミックス協会秋季シンポジウムにおいてシンポジウムポスター奨励賞を受賞した。
また、これと並行して、より生産性に優れた手法となることが期待でき、実用化にも適した方法であると考えられる液体原料噴霧機構に二流体式噴霧機構を用いた装置の構築・立ち上げを進めるとともに、一流体式噴霧機構(インジェクターや超音波霧化器)を採用した手法の検討を行った。
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