• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2020 Fiscal Year Annual Research Report

Development of new surface electron diffraction method and evaluation of electron density distribution

Research Project

Project/Area Number 18H01877
Research InstitutionJapan Atomic Energy Agency

Principal Investigator

深谷 有喜  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 原子力科学研究所 先端基礎研究センター, 研究主幹 (40370465)

Project Period (FY) 2018-04-01 – 2021-03-31
Keywords電子回折 / 表面 / 電子密度分布
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、収束ビーム反射高速電子回折(収束ビームRHEED)装置を開発し、実験と解析の双方を高度化することにより、物質表面の原子配置及び電子密度分布を実験的に決定することを目的としている。本年度は、開発した収束ビームRHEED装置の動作試験を実施し、実際の物質表面からの回折ディスクの測定及び原子配置と電子密度分布の導出を試みた。
始めに、開発した電子銃の各種レンズパラメーターを調整し、収束電子ビームの形成を実施した。ビーム径と開き角はレンズの公式により数値的に求められるため、この計算結果を参考にして電子銃を構成するコンデンサーレンズ及び投影レンズの設定値を調整した。それぞれのレンズの特性は計算結果に即した振る舞いを示し、結果として、ほぼ同心円状の収束電子ビームの形成を蛍光スクリーン上で確認した。収束電子ビームの形状のわずかな歪みは、軸合わせのための偏向レンズ及びアパーチャーの位置の微調整により改善されると考えられる。現在、標準試料であるSi(111)-7×7表面を用いて、実際の物質表面からの回折ディスクの観測を試みている。今後は、第一原理計算による原子配置を参考にして、表面の原子配置と電子密度分布の最適化を実施し、本手法の確立につなげる。最終的には、本手法を遷移金属表面上の単層グラフェンの研究に適用し、貴金属原子のインターカレーションによりフリースタンディング化した単層グラフェンの電子密度分布変化の詳細を解明する。

Research Progress Status

令和2年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和2年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (4 results)

All 2020

All Journal Article (2 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 1 results) Presentation (1 results) (of which Invited: 1 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Emergence of nearly flat bands through a kagome lattice embedded in an epitaxial two-dimensional Ge layer with a bitriangular structure2020

    • Author(s)
      Fleurence A.、Lee C.-C.、Friedlein R.、Fukaya Y.、Yoshimoto S.、Mukai K.、Yamane H.、Kosugi N.、Yoshinobu J.、Ozaki T.、Yamada-Takamura Y.
    • Journal Title

      Physical Review B

      Volume: 102 Pages: 201102(R)

    • DOI

      10.1103/PhysRevB.102.201102

    • Peer Reviewed / Open Access / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Electronic structure of a (3×3)-ordered silicon layer on Al(111)2020

    • Author(s)
      Sato Yusuke、Fukaya Yuki、Cameau Mathis、Kundu Asish K.、Shiga Daisuke、Yukawa Ryu、Horiba Koji、Chen Chin-Hsuan、Huang Angus、Jeng Horng-Tay、Ozaki Taisuke、Kumigashira Hiroshi、Niibe Masahito、Matsuda Iwao
    • Journal Title

      Physical Review Materials

      Volume: 4 Pages: 064005

    • DOI

      10.1103/PhysRevMaterials.4.064005

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Presentation] 回折2020

    • Author(s)
      深谷有喜
    • Organizer
      日本表面真空学会 東北・北海道支部 関東支部合同セミナー「特別企画:これまでの表面薄膜分析シリーズを振り返って」
    • Invited
  • [Book] ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線2020

    • Author(s)
      深谷有喜(分担執筆)
    • Total Pages
      448
    • Publisher
      エヌ・ティー・エス

URL: 

Published: 2021-12-27  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi