2020 Fiscal Year Annual Research Report
プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料の高能率ダメージフリー加工
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18H03754
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Research Institution | Osaka University |
Principal Investigator |
山村 和也 大阪大学, 工学研究科, 教授 (60240074)
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Project Period (FY) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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Keywords | プラズマ / 難加工材料 / 研磨 / ダメージフリー / ワイドギャップ半導体 / 金型材料 |
Outline of Annual Research Achievements |
今年度は焼結AlN基板の高精度研磨プロセスの開発に取り組んだ。極低研磨圧力条件(0.8 kPa)にてプラズマ援用研磨を適用することで、スクラッチならびに脱粒ピットが無い表面が得られ、Sa 3 nmを達成した。また、AlNのプラズマ援用研磨において、ボンド剤の主成分がSiO2であるビトリファイドボンドのダイヤモンド砥粒砥石と基板の表面改質用のプロセスガスとしてCF4を含むプラズマを組み合わせると、基板の改質種であるフッ素ラジカルがボンド剤のSiO2を連続して微少量エッチングすることで自生作用が生じ、砥石表面の目詰まりや摩滅等により研磨能率が低下することなく、高能率研磨を持続できることがわかった。
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Research Progress Status |
令和2年度が最終年度であるため、記入しない。
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Strategy for Future Research Activity |
令和2年度が最終年度であるため、記入しない。
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Research Products
(15 results)