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2021 Fiscal Year Annual Research Report

Development of single nano materials based on quantum beam and data science

Research Project

Project/Area Number 18H03895
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

古澤 孝弘  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 室屋 裕佐  大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (40334320)
岡本 一将  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (10437353)
大沼 正人  北海道大学, 工学研究院, 教授 (90354208)
Project Period (FY) 2018-04-01 – 2023-03-31
Keywords放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 / データ科学
Outline of Annual Research Achievements

半導体デバイスの大量生産では、非電離放射線領域の光を露光源として加工が行われてきたが、解像度が限界に達っしたため、代わって電離放射線領域にある波長13.5 nmの極端紫外光(EUV)が次期露光源として使われようとしている。EUVはN7もしくは7nmノードと呼ばれる解像度16 nmから実用化され、N2もしくは2 nmノードと呼ばれる解像度10 nm未満(シングルナノ)領域でも使い続けられることが期待されている。しかし、微細加工材料開発は解像度10 nmに大きな壁があり、開発のための学術基盤の早急な整備が必要である。本研究では、電子線加速器、EUV露光機、EUVFEL等の量子ビームを駆使しデータを収集するとともに、データ科学的手法を解析に活用することにより、シングルナノ領域で起こる放射線誘起反応を解明し、シングルナノ材料(2 nmノードに適用可能な20 nm未満の周期で10 nm未満のパターンを解像できる材料)を開発する。
本年度は、EUVFELを次世代光源と想定した時の線量率の影響、メタルレジストの生成物分析、低エネルギー電子の界面でのダイナミクス、溶解挙動に与えるレジスト表面エネルギーの影響を解明した。これら得られた知見に基づいたEUVレジスト反応機構モデルにより、モンテカルロシミュレーションを行い、得られた結果を機械学習により解析し、物性値、プロセス条件と欠陥発生確率の関係を明らかにした。マスク製造用電子線リソグラフィに関しても、シミュレーションにより得られたデータを解析し、欠陥抑制のための設計指針を得た。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

本年度は、2課題(レジスト材料中の素反応の解明およびシングルナノ材料の開発)、6項目に関して、それぞれ一定の成果が得られたため、おおむね順調に進展していると判断した。

Strategy for Future Research Activity

量子ビームによるイオン化で始まる一連のイメージ形成過程におけるマトリクス中でのイオン化、電子の熱化、電子移動、脱プロトン、プロトン移動、酸触媒反応、高分子溶解過程を前述の独自の手法により解明し、シングルナノ材料を開発する。本研究では、化学増幅型レジストを開発の起点とし、無機レジスト等への新規展開をはかる。化学増幅型レジストは水酸基を非極性基で保護した高分子と酸発生剤、クエンチャー(塩基)で構成される。露光により酸が生成し、露光後の過熱で脱保護反応を誘起し、高分子の極性を変化させることにより、現像液に対する溶解度変化を起こさせレジストとして利用する。具体的実施項目を下記に列挙する。
I.レジスト材料中の素反応の解明(H30-R4)
1) レジスト材料の初期状態の計測(初期状態の制御)2) 分子凝縮相における二次電子の熱化機構の解明(熱化距離の制御)3)高分子マトリ
クス中シングルナノ領域における放射線誘起反応の解明4)局所領域での化学反応の解明(分子拡散の制御)5)局所領域からの分子の溶解挙動の解明
II.シングルナノ材料の開発
現状のフォトレジスト材料開発では、過去の知見に基づき材料を合成、調合し、露光結果をSEMで観察、SEM像から評価指数(感度、解像度、ラフネス)を抽出し、試行錯誤により、性能の改善を行っていく。最適解を見つけるためには10の9乗回以上の試行錯誤が必要であるが現実的でない。シングルナノ材料の開発には、このような開発工程をデータ科学的手法により効率化することが必要であり、機械学習を用いた特徴量の決定と反応機構(関数)への関連付けを行う。

  • Research Products

    (10 results)

All 2022 2021

All Journal Article (6 results) (of which Peer Reviewed: 6 results,  Open Access: 1 results) Presentation (4 results) (of which Int'l Joint Research: 4 results,  Invited: 4 results)

  • [Journal Article] Formulation of trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in sub-10 nm half-pitch region for chemically amplified extreme ultraviolet resists2022

    • Author(s)
      Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: 016501~016501

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac3ea7

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Application of machine learning to stochastic effect analysis of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2021

    • Author(s)
      Azumagawa Kazuki、Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 60 Pages: SCCC02~SCCC02

    • DOI

      10.35848/1347-4065/abe802

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Estimation of electron affinity of photoacid generators: density functional theory calculations using static and dynamic models2021

    • Author(s)
      Okamoto Kazumasa、Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 60 Pages: SCCC03~SCCC03

    • DOI

      10.35848/1347-4065/abf469

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation2021

    • Author(s)
      Okamoto Kazumasa、Kawai Shunpei、Ikari Yuta、Hori Shigeo、Konda Akihiro、Ueno Koki、Arai Yohei、Ishino Masahiko、Dinh Thanh-Hung、Nishikino Masaharu、Kon Akira、Owada Shigeki、Inubushi Yuichi、Kinoshita Hiroo、Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 14 Pages: 066502~066502

    • DOI

      10.35848/1882-0786/abfca3

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Study on radical dianions of carboxylates used as ligands of metal oxide nanocluster resists2021

    • Author(s)
      Ikeuchi Kengo、Muroya Yusa、Ikeda Takuya、Komuro Yoshitaka、Kawana Daisuke、Kozawa Takahiro
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 60 Pages: 076503~076503

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac06db

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Analysis of mitigating factors for line edge roughness generated during electron beam lithography using machine learning2021

    • Author(s)
      Jin Yuqing、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 60 Pages: 076509~076509

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac0d13

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Stochastic Effects in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2021

    • Author(s)
      T. Kozawa
    • Organizer
      SPIE Photomask Technology and the Extreme Ultraviolet Lithography
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Mechanism of electron beam resists2021

    • Author(s)
      T. Kozawa
    • Organizer
      Photomask Japan
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Resist thickness dependence of latent images in chemically amplified resists used for electron beam lithography2021

    • Author(s)
      T. Kozawa and T. Tamura
    • Organizer
      38th Int. Conf. Photopolymer Science and Technology
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] EUVL Stochastics Symposium2021

    • Author(s)
      T. Kozawa
    • Organizer
      MNC
    • Int'l Joint Research / Invited

URL: 

Published: 2022-12-28  

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