2020 Fiscal Year Research-status Report
磁場・電場複合印加方式による形状精度を保持する新型高能率超精密研磨技術の開発研究
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18K03891
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| Research Institution | National Institute of Technology, Toyama College |
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Principal Investigator |
西田 均 富山高等専門学校, その他部局等, 特命フェロー(教育・研究支援) (00390435)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
井門 康司 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (40221775)
島田 邦雄 福島大学, 共生システム理工学類, 教授 (80251883)
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| Project Period (FY) |
2018-04-01 – 2022-03-31
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| Keywords | 磁気混合流体 / 精密研磨 / 形状精度 / 微細V溝 / 磁場 / 電場 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
1. 加工量分布の予測法の検証 開発した予測法を用いて，円錐台形状工具の場合の加工量分布を予測して，本予測法の精度と特性を明らかにした．
2. 磁場・電場複合印加方式による平面内微細V溝の全面研磨実験 開発した平面用研磨装置を用いて，磁場と電場の同時印加による平面および平面内微細V溝に対する全面研磨実験を行い，研磨特性を明らかにした．直流磁場のみの場合，V溝底部の研磨が行われない．しかし，直流磁場に電場を印加することによりV溝底部を含んだ全面研磨が行われた，この場合，V溝角部と斜面に形状変化を起こすことがわかった．パルス磁場のみの場合，V溝角部と斜面では形状を保持した研磨が行われるが，V溝底部は平滑化が進まないことがわかった．パルス磁場に電場を印加した場合では形状を保持したV溝底部を含んだ全面研磨が行われることが明らかになった．
3. 研磨に及ぼすMCFのER効果 磁場に加え電場を印加することにより，V溝底部が平滑化される原因を定点研磨・トルク計測装置による実験結果から考察した．MCFは電気粘性流体効果(ER効果)を有することから，電場下で砥粒は帯電して加工面に付着・配置されると推察される．
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
3: Progress in research has been slightly delayed.
Reason
直流磁場と電場の同時印加の平面に対する全面研磨実験において，予期せぬ電流の急上昇(導通)が起こった．この現象の原因と対策を明らかにする必要が生じているため．
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| Strategy for Future Research Activity |
1. 検証実験の実施 直流磁場と電場の同時印加の平面に対する全面研磨において，電流の急上昇が見られた．この現象と原因を明らかにするための再実験と検証実験を行う．
2. 成果の公表 本研究の検証実験を含めた成果をまとめ，これを学会誌に論文投稿する．
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| Causes of Carryover |
本研究課題をより精緻に達成するために事業期間を延長した．このための，追加実験，打合せ・学会発表出張，および，論文投稿の費用に使用する．
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