2021 Fiscal Year Annual Research Report
Study on highly efficient ultra-precision polishing that maintains shape accuracy by combined application of magnetic and electric fields
| Project/Area Number |
18K03891
|
|---|
| Research Institution | National Institute of Technology, Toyama College |
|---|
Principal Investigator |
西田 均 富山高等専門学校, その他部局等, 特命フェロー(教育・研究支援) (00390435)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
井門 康司 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (40221775)
島田 邦雄 福島大学, 共生システム理工学類, 教授 (80251883)
|
|---|
| Project Period (FY) |
2018-04-01 – 2022-03-31
|
| Keywords | 磁気混合流体 / 精密研磨 / 形状精度 / 微細V溝 / 磁場 / 電場 |
|---|
| Outline of Annual Research Achievements |
1. 研磨中の電流急上昇の不具合の検証 前年度の磁場・電場複合印加方式の研磨実験において，電流の急上昇が発生した．この現象の原因を解明するために検証実験と再実験を行った．この結果，工具と加工物の隙間間隔δが狭い場合に電流が流れることが明らかになり，電流の急上昇は隙間間隔の設定ミスによることがわかった．本研磨法ではδ=1.0 mmにおいて，電流一定の安定した研磨が行われることを確認した．
2. 磁場・電場複合印加方式による平面内微細V溝の全面研磨実験 開発した平面用研磨装置を用いて，磁場と電場の同時印加による平面内微細V溝に対する全面研磨実験を行い，研磨特性を明らかにした．直流磁場のみの場合，V溝底部の研磨が行われない．直流磁場に電場を印加することによりV溝底部を含んだ全面研磨が行われた．しかし、V溝角部と斜面に形状変化を起こすことがわかった．パルス磁場のみの場合，V溝角部と斜面では形状を保持した研磨が行われるが，V溝底部は平滑化が進まない．パルス磁場に電場を印加すると形状を保持したV溝底部を含んだ全面研磨が行われることを確認した．
3. 磁場と電場の同時印加の場合の加工除去量特性 直流磁場と電場の印加の加工除去量は直流磁場のみのそれより大きい．また，パルス磁場と電場の印加の加工除去量はパルス磁場のみのそれより大きいことが明らかになった．これからも電場印加の効果が確認された．
4. 論文投稿による本研究課題の審査と公表 本研究の成果をまとめ，精密工学会誌に論文投稿した．その結果，本研磨法の特性と効果が査読確認され，精密工学会誌に掲載決定になった．
|
Research Products
(14 results)
