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2020 Fiscal Year Annual Research Report

Development of silicon and nitrogen co-doped diamond-like carbon with high functionality

Research Project

Project/Area Number 18K04688
Research InstitutionHirosaki University

Principal Investigator

中澤 日出樹  弘前大学, 理工学研究科, 准教授 (90344613)

Project Period (FY) 2018-04-01 – 2021-03-31
Keywordsカーボン材料 / プラズマ化学気相成長法 / 電子・電気材料 / コーティング材料
Outline of Annual Research Achievements

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)は、高硬度、高耐摩耗性、低摩擦係数などの特徴を有していることから、ハードコーティング材料などとして応用が進められている。また、DLCを用いた太陽電池など電子材料としての応用が注目されている。本研究の目的は、ケイ素(Si)および窒素(N)を添加したDLC(Si-N-DLC)を作製し、諸特性と組成・化学結合状態・構造との相関関係を解明することで、Si-N-DLCの更なる高機能化および新機能の発現を実現することである。
高周波プラズマ化学気相成長装置を用いて作製したSi-N-DLCおよびN添加DLC(N-DLC)の組成・構造・化学結合状態、電気的特性、光学的特性、機械的特性の評価および熱的安定性について調べた。その結果、以下のことが明らかになった。N-DLCでは、347℃のアニールによってsp3C-Hn結合成分が増加したが、420℃以上でC-Hnおよびsp3C-Cが減少し、sp2C=Cのクラスター化が促進された。N-DLCおよびSi-N-DLCの内部応力は420℃以上で減少し、臨界荷重は420℃以上で増加したが、Si-N-DLCの方が内部応力は低く臨界荷重は高かった。N-DLCの摩擦係数及び比摩耗量は、アニール前と比べて420℃以上のアニールで増加したが、Si-N-DLCの摩擦係数及び比摩耗量は同アニールに対しても変化が小さかった。N-DLC/p型Siヘテロ接合の電流電圧特性から得られた整流比は347℃のとき最も高くなったが、Si-N-DLC/p型Siヘテロ接合の整流比は270℃で最も高くなり、このとき順方向電流は最大になった。N-DLCの光学バンドギャップは、235℃で増加傾向を示したが、アニール温度の増加と共に減少した。一方、Si-N-DLCの光学バンドギャップは、N-DLCよりも高く、アニール温度の増加に対して変化が小さかった。

  • Research Products

    (5 results)

All 2021 2020 Other

All Presentation (4 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results) Remarks (1 results)

  • [Presentation] Influence of Hydrogen Gas Flow Ratio on the Properties of Silicon and Nitrogen Doped Diamond-Like Carbon Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition2021

    • Author(s)
      H. Osanai, Y. Sasaki, Y. Ohtani, Y. Murono, M. Sato, Y. Kobayashi, Y. Enta, Y. Suzuki, H. Nakazawa
    • Organizer
      14th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2020/2021
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] プラズマ化学気相成長法によるケイ素および窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン薄膜の特性評価2020

    • Author(s)
      中澤 日出樹
    • Organizer
      化学工学会 第51回秋季大会 (2020)
    • Invited
  • [Presentation] 窒素添加ダイヤモンドライクカーボン膜特性へのポストアニール効果2020

    • Author(s)
      長内 公哉,中村 和樹, 郡山 春人, 小林 康之, 遠田 義晴, 鈴木 裕史, 中澤 日出樹
    • Organizer
      2020年 日本表面真空学会 学術講演会
  • [Presentation] ポストアニールが窒素添加水素化DLC膜の機械的・光学的・電気的特性に及ぼす影響2020

    • Author(s)
      長内 公哉,室野 優太,佐藤 聖能,小林 康之,遠田 義晴,鈴木 裕史,中澤 日出樹
    • Organizer
      第34回ダイヤモンドシンポジウム
  • [Remarks] 弘前大学 研究者総覧

    • URL

      http://hue2.jm.hirosaki-u.ac.jp/html/596_ja.html

URL: 

Published: 2021-12-27  

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