2020 Fiscal Year Research-status Report
Vertical magnetic assembly of two-dimentional components on a substrate for heat shielding effect
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18K04911
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Research Institution | National Institute of Information and Communications Technology |
Principal Investigator |
青木 画奈 国立研究開発法人情報通信研究機構, ネットワークシステム研究所ネットワーク基盤研究室, 主任研究員 (90332254)
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Project Period (FY) |
2018-04-01 – 2022-03-31
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Keywords | 磁場アセンブリ / 3次元 / アンテナ / 遮熱 / 熱赤外線 / 反磁性体 / 常磁性体 / 磁性流体 |
Outline of Annual Research Achievements |
今年度は、外部磁場印加下で基板面直方向に直立した磁気異方性2次元部品を、基板上の任意の位置に磁場勾配を利用して誘導し、直立状態を補助する、側壁が傾斜したスリット構造を基板上に形成可能なマスクレス露光装置(DWL66+, Heidelberg Instruments社(独))を所属機関の共用設備として導入した。本装置は面内方向の描画可能最小構造サイズが300 nm未満、高さ方向に1024階調のグレースケール描画機能を有しており、ミクロンオーダの構造を作製する本課題の要求精度を十分満たしている。しかし、コロナ禍下で実験可能な時間に制約があったため、本機を用いたスリット構造作製にまで至らなかった。 外部磁場によって基板面直方向に直立した磁気異方性2次元部品を半永久的に固定するために、従来は2次元部品側から紫外光を照射して、基板に融着していた。この構成では、2次元部品と基板の接触部に紫外光が到達するまでに、カバーガラス、磁性流体、および2次元部品内部を透過せねばならず、散乱、吸収の影響が大きく照射効率が低かった。今年度は、照射効率を向上させるために、基板裏面から紫外光を照射する構成に磁場印加装置を改良した。この構成では、ガラス基板を透過すると直ちに2次元部品と基板の接触部に到達できるため、2次元部品固定率が向上すると期待できる。実験自体は、上述の通り、基板上に傾斜スリットを形成するまで至らなかったので、裏面照射が2次元部品固定率に与える効果については確認できなかった。
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Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
4: Progress in research has been delayed.
Reason
コロナ禍下で実験可能な時間が限られたため、構造作製が進んでいない。
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Strategy for Future Research Activity |
令和3年度もコロナ禍が続いているため、構造作製を中心とする本課題を計画的に遂行できるか見通しが不透明だが、磁気異方性2次元部品がスムーズに引き込まれるスリットの設計とマスクレス露光機による構造作製、裏面から紫外光を照射することによる歩留まり向上への効果の確認を最低限の実施目標にする。これらが達成できれば、2次元部品を基板上に直立させて3次元構造を形成する、新しい3次元微細構造作製技術の見通しが立ち、本課題のみならず、多方面への具体的な展開の立案が可能になると考える。
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Causes of Carryover |
コロナ禍下で実験可能な時間が限られたため、構造作製時の消耗品購入費が残った。研究期間を1年延長し、次年度の実験消耗品購入費として使用する。
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