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2020 Fiscal Year Annual Research Report

Study on Properties of Quantum Heterostructures by Using High Quality alpha-type Gallium Oxide Thin Films

Research Project

Project/Area Number 18K04958
Research InstitutionWakayama University

Principal Investigator

宇野 和行  和歌山大学, システム工学部, 准教授 (90294305)

Project Period (FY) 2018-04-01 – 2021-03-31
Keywordsα型酸化ガリウム / ミストCVD法 / 結晶成長メカニズム / 配位子交換 / アセチルアセトナート錯体化速度 / スズのメモリ効果
Outline of Annual Research Achievements

実施2年目の2019年度には,水溶液中のGaイオンのアセチルアセトナート錯体化で酸化ガリウムが単結晶成長すること,AlGaO混晶を成長するためのAlイオンのアセチルアセトナート錯体化には長い撹拌時間が必要であることを見出した。これら2019年度の結果を受けて,2020年度には,原料水溶液中のAlイオンの錯体化管理方法の確立,およびn型化のための安定なスズドーピング手法に注力して研究を行った。
Alイオンが水溶液中でアセチルアセトナート錯体化したことを検出するための方法としてFTIR測定を行った。しかし,希薄な水溶液であるため,水の赤外吸収ピークと重なると吸収ピークの変化が検出できなくなってしまう。また,ガラス板に水溶液を挟み込む通常の方法だと,水溶液の実効的な厚さの測定ごとのばらつきが再現性に与える影響が無視できないことが分かった。そこで,まずイオン濃度を成長時に採用している金属イオン濃度より5倍濃厚化した0.1mol/Lで測定するとともに,ATR法で測定再現性の向上を図った。その結果,錯体化が時間とともに進行する様子が明確かつ系統的に検出できた。その結果から,錯体化の進行は40-50℃程度に温めながら撹拌することで劇的に短くなることも見いだせた。
スズドーピングについても検討した。慎重に実験を重ねた結果,スズを添加していない酸化ガリウム薄膜からもスズ原子が検出されることが分かった。成長装置のセットアップを何パターンか変更してSIMS測定を重ねて行った結果,ミスト発生源であるガラスベルジャの内側に酸化スズが残留していることが分かった。スズにはメモリ効果があるのである。対策として,ベルジャの内側をフッ素樹脂でコーティングしたり,ベルジャをガラス製からポリ製に変更することを考えている。

  • Research Products

    (7 results)

All 2021 2020

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Growth mechanism ofα-Ga2O3on a sapphire substrate by mist chemical vapor deposition using acetylacetonated gallium source solutions2020

    • Author(s)
      Uno Kazuyuki、Ohta Marika、Tanaka Ichiro
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 117 Pages: 052106~052106

    • DOI

      10.1063/5.0014056

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ミストCVD法によるα型AlGaO混晶成長とAl原子の再脱離2021

    • Author(s)
      太田茉莉香,田中一郎,宇野和行
    • Organizer
      2020年度日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会第3回研究会
  • [Presentation] ミストCVD法によるα型AlGaO混晶組成制御とAl原子の再脱離2021

    • Author(s)
      太田茉莉香,田中一郎,宇野和行
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Composition Control of Alpha-AlGaO Alloy Thin Films in Mist CVD2021

    • Author(s)
      Marika Ohta and Kazuyuki Uno
    • Organizer
      Compound Semiconductor Week 2021 (online)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Mist CVD法を用いたα-(AlGa)2O3混晶成長におけるアセチルアセトナート錯化の影響2020

    • Author(s)
      太田茉莉香,宇野和行,田中一郎
    • Organizer
      2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] Alイオン錯化時間とミストCVD成長によるAlGaO混晶成長2020

    • Author(s)
      太田茉莉香,宇野和行,田中一郎
    • Organizer
      2020年度日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会第2回研究会
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 成膜方法及び成膜装置2020

    • Inventor(s)
      渡部武紀,橋上洋,坂爪崇寛,宇野和行
    • Industrial Property Rights Holder
      和歌山大学,信越化学工業
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2020-148776

URL: 

Published: 2021-12-27  

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