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2020 Fiscal Year Annual Research Report

Potential induced degradation mechanism due to Na impurities in Si megasolar systems investigated by in-situ transmission electron microscopy

Research Project

Project/Area Number 18K05009
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

大野 裕  東北大学, 金属材料研究所, 准教授 (80243129)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 森戸 春彦  東北大学, 金属材料研究所, 准教授 (80463800)
Project Period (FY) 2018-04-01 – 2021-03-31
Keywords電圧誘起ナトリウム集積 / シリコン太陽電池 / メガソーラー
Outline of Annual Research Achievements

多数のシリコン(Si)太陽電池モジュールを直列接続で運用するメガソーラーでは、フレームと太陽電池セル間の電位差によりナトリウム(Na)不純物が積層欠陥などへ移動・集積し、発電効率の低下(PID)が生じると考えられている。この移動・集積機構の解明を目指した。

一番の成果は、Si中の積層欠陥へのNaの移動・集積の過程はSiの極性やフェルミ準位、小数キャリア密度に依存するという、PIDが生じにくい太陽電池セルを設計する上で重要な知見である。塑性変形法でフレッシュな積層欠陥リボンを導入したSi単結晶にフラックス法でNaを添加すると、p型Siのみリボン幅が広がった。第一原理計算より、1)Naはフェルミレベルに依存せず格子間位置に安定に存在し、その格子間Naの形成エネルギーはp型Siで低い、2)格子間Naは積層欠陥に隣接して存在する場合が最安定で、その結合エネルギーはフェルミ準位に依存しない、ことを示した。これより、p型Siには格子間Naが多量に導入でき、そのNaが積層欠陥と相互作用して結合エネルギー分だけ積層欠陥エネルギーが下がるためリボン幅が広がる、と説明された(大野、森戸ら:APEX11(2018)061303)。

フラックス法やPID加速実験で意図的にNaを添加した実用太陽電池用のp型ハイパフォーマンス多結晶SiのSEM観察より、Naは積層欠陥・粒界と優先的に相互作用することが示された。その反応性は粒界エネルギーと相関があり、低エネルギーの∑3粒界や積層欠陥に比べて高エネルギーのランダム粒界や高∑値粒界の反応性が高いことが分かった。この結果もPIDメカニズムを理解するうえで重要な知見である。STEM法および3次元アトムプローブ法により、積層欠陥におけるNaの集積濃度は10ppm(検知限界)より低いとされた。そのため、STEMによるNaの集積過程その場観察は実現できなかった。

  • Research Products

    (7 results)

All 2021 2020

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 2 results) Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 2 results)

  • [Journal Article] Insight into segregation sites for oxygen impurities at grain boundaries in silicon2021

    • Author(s)
      Y. Ohno, J. Ren, S. Tanaka, M. Kohyama, K. Inoue, Y. Shimizu, Y. Nagai, H. Yoshida
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 14 Pages: 041003/1-4

    • DOI

      10.35848/1882-0786/abe80d

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Chemical bonding at room temperature via surface activation to fabricate low-resistance GaAs/Si heterointerfaces2020

    • Author(s)
      Y. Ohno, J. Liang, N. Shigekawa, H. Yoshida, S. Takeda, R. Miyagawa, Y. Shimizu, Y. Nagai
    • Journal Title

      Applied Surface Science

      Volume: 525 Pages: 146610/1-5

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2020.146610

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Presentation] 低温FIB法とアトムプローブ・STEM複合法による半導体粒界の構造・組成精密評価2021

    • Author(s)
      大野裕
    • Organizer
      日本顕微鏡学会第77回学術講演会
    • Invited
  • [Presentation] Formation process of high thermal-stability diamond/Si and diamond/GaAs heterointerfaces by surface activated bonding2020

    • Author(s)
      Y. Ohno, J. Liang, Y. Shimizu, H. Yoshida, N. Shigekawa
    • Organizer
      Materials Research Society (MRS) 2020 Fall Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Microscopic picture of direct bonding via surface activation for low-resistance Si/wide-gap semiconductor heterointerfaces2020

    • Author(s)
      Y. Ohno, J. Liang, N. Shigekawa, H. Yoshida, R. Miyagawa, Y. Shimizu, Y. Nagai
    • Organizer
      Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science (PRiME) 2020
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 表面活性化接合法で作成したSi/ワイドギャップ半導体ヘテロ界面の微視的描像2020

    • Author(s)
      大野裕
    • Organizer
      独立行政法人日本学術振興会接合界面創成技術第191委員会 第28回研究会
    • Invited
  • [Presentation] 低温FIB-断面STEM法によるSi/Diamond表面活性化接合界面の構造評価2020

    • Author(s)
      大野裕, 梁剣波, 吉田秀人, 清水康雄, 永井康介, 重川直輝
    • Organizer
      第81回応用物理学会秋季学術講演会

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Published: 2021-12-27  

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