2022 Fiscal Year Annual Research Report
Development og highly reactive halogenation reaction using sulfur compound and its applications
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18K05132
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| Research Institution | Kindai University |
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Principal Investigator |
前川 智弘 近畿大学, 薬学部, 教授 (40363890)
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2018-04-01 – 2023-03-31
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| Keywords | ハロゲン化 / 硫黄化合物 / 活性化 / N-ハロスクシンイミド |
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| Outline of Annual Research Achievements |
化合物に臭素を導入する方法は医薬品合成をはじめとする有機合成において幅広く用いられており、特にN-Bromosuccinimide(NBS)は穏和な臭素化剤として繁用されてきた。しかし、穏和な反応性故に、電子不足な芳香環では反応性が低下し、満足いく収率が得られないため、酸の添加や特殊な溶媒を用いて反応を行わなければならなかった。
このような背景下、我々はこのNBSに対して、チオフェノール誘導体であるフェニルチオトリメチルシランを硫黄化合物として添加すると、NBSの反応性が大きく向上することを見出した。本法を用いることでNBSのみでは反応が進行しない、エステル基やカルボキシ基、カルボニル基等の電子求引性基を有するアニソール誘導体の臭素化反応が収率よく進行することを見出した。
今回、我々は適用可能な基質の範囲を探索し、本反応の有用性を向上させるべく検討を行った。その結果、ニトロ基やシアノ基などの強力な電子求引基存在下でも、電子供与基であるメトキシ基の置換位置により、臭素化が進行することが分かった。またこれらの基質ではNBS飲みでは反応が進行せず、硫黄化合物による活性化が必要であった。また、本反応に用いることができる硫黄化合物を検討したところ、固体のチオフェノール誘導体でも反応が進行することが分かり、ハンドリングに問題があったフェニルチオトリメチルシランより取り扱いやすい硫黄化合物を見出すことができた。さらに検討を重ねた結果、固体でより取り扱いやすい硫黄化合物である単体硫黄でも反応が進行することを見出すことができた。
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