2021 Fiscal Year Annual Research Report
Development of photosensitive phosphonic acid derivatives for organic thin film transistor
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18K05222
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| Research Institution | Kanagawa University |
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Principal Investigator |
山口 和夫 神奈川大学, 理学部, 教授 (20114902)
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2018-04-01 – 2022-03-31
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| Keywords | 感光性ホスホン酸 / 自己組織化単分子膜 / 有機薄膜トランジスタ / 2-ニトロベンジル誘導体 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
令和2年度年度計画していて実施できなかった有機薄膜半導体の[1]ベンゾチエノ[3,2-b][1]ベンゾチオフェン（BTBT）の末端にアミノ基と反応する活性カーボナートを持つ誘導体の合成に成功した。これを用いすでに平成30年度開発している2-ニトロベンジルカルバマートでアミノ基を保護したホスホン酸と組み合わせて、スペーサーを介してBTBT骨格をパターン化したSAMを調製することができた。
すでに令和１年度から研究を行っているかご型ポリシロキサン(POSS)を含む2-ニトロベンジルカルバマート型のホスホン酸の研究を継続し、シランカップリング剤型光分解性SAMと同程度の性能を、ホスホン酸型光分解性SAMが示すことを明らかにし、本年度は学会と雑誌論文での発表を行った。
令和1年度に2-ニトロベンジルカルバマートをリンカーとして、他末端にカルボン酸を持つホスホン酸の合成に成功している。これを用いると、一度の光照射によりカルボン酸とアミンの官能基のパターニングを可能にする光分解性ホスホン酸のSAMが得られることを明らかにしている。
その研究を令和2年度以降も継続・発展させ、2-ニトロベンジルカルバマートの代わりに2-ニトロベンジルカーボナートおよびチオカーボナートをリンカーとする化合物を合成し、それぞれカルボン酸とアルコール、カルボン酸とチオールのパターニングを、フォトマスクを用いた一度の光照射で実現可能な感光性ホスホン酸SAMを開発した。さらに、2－ニトロベンジルカーボナートおよびチオカーボナートをリンカーとし、他末端にアミノ基を持つホスホン酸の合成にも成功し、これらを用いてそれぞれアミンとアルコール、アミンとチオールのパターニングを、フォトマスクを用いた一度の光照射で実現可能な感光性ホスホン酸SAMを開発した。本年度はこれらの成果を学会発表した。さらに現在投稿論文も準備中である。
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Research Products
(3 results)
