2007 Fiscal Year Annual Research Report
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19027029
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| Research Institution | Kyoto University |
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Principal Investigator |
中尾 佳亮 Kyoto University, 工学研究科, 助教 (60346088)
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| Keywords | ケイ素 / シリカート / 遷移金属 / 分子内配位 |
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| Research Abstract |
有機ケイ素化合物は,ケイ素が天然に豊富に存在するため入手が容易なうえ,一般に毒性が低く安定なため,調製・保存・取り扱いが容易な合成反応剤としてきわめて魅力的である.しかしながら,きわめて安定がゆえに反応性が低いテトラオルガノシランをそのまま炭素求核剤として利用できる実用的な例は限られており,有機合成反応剤としての汎用性はあまり高くなかった.このような背景から申請者は,オルガノ[(2-ヒドロキシメチル)フェニル]ジメチルシランを用いた遷移金属触媒反応をこれまでに開発してきた.本ケイ素反応剤は,テトラオルガノシランであるためきわめて安定でありながら,水酸基の分子内配位によって容易に5配位シリカートを形成できるため,従来用いられてきたケイ素反応剤に比べ,きわめて温和な条件下でトランスメタル化が進行し,交差カップリング反応やカルボニル付加反応に利用できることを報告している.本研究では,これを用いた効率的分子変換のさらなる展開と,これをさらに修飾することによって,高配位シリカートの形成や遷移金属へのトランスメタル化あるいは酸化的付加による炭素-ケイ素結合の活性化が容易で,飛躍的に反応活性な「機能性ケイ素反応剤」およびこれを用いる新反応をおこなっている.本年度は,同ケイ素反応剤の反復クロスカップリングを利用したオリゴアレーンの効率合成を検討した.具体的には,水酸基をテトラヒドロピラニル(THP)基やアセチル(Ac)基で保護した同シリル基を有するハロゲン化アリールを,水酸基が無保護のアリールシランと反応させ,反応終了後に脱保護すると,末端に[(2-ヒドロキシメチル)フェニル]ジメチルシリル基を有するビアリールを合成することができる.この交差カップリング反応-脱保護の操作を同様に繰り返すと,末端に同シリル基を有するオリゴアレーンをきわめて簡便に合成できるようになった.
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Research Products
(4 results)
