2009 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
19101005
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Research Institution | Tohoku University |
Principal Investigator |
江刺 正喜 Tohoku University, 原子分子材料科学高等研究機構, 教授 (20108468)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小野 崇人 東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 (90282095)
田中 秀治 東北大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00312611)
戸津 健太郎 東北大学, 産学連携推進本部, 助教 (60374956)
川合 祐輔 東北大学, 大学院・工学研究科, 助教 (20451536)
宮下 英俊 東北大学, 大学院・工学研究科, 助教 (00401258)
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Keywords | MEMS / 電子線描画 / カーボンナノチューブ / ダイアモンド / マスクレス露光 / マイクロマシニング |
Research Abstract |
本研究の目的は、半導体集積回路の製造で特にその多品種少量生産や短期間の開発に必要とされている、高スループットのマスクレス電子線描画を行う超並列電子線直接描画装置(Massive Parallel Electron Beam Lithography System)を開発することにある。これには半導体集積回路の製造技術を発展させ、ある程度立体的な微細加工を行うMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)と呼ばれる技術を適用する。 本研究ではCNTやSi、ダイアモンドを用いた電子源を作製し、引出し電極をあたらしいセルフアライメントプロセスにより作製、電界放出に成功している。また、今回電子レンズの一種であるアインツェルレンズをキャビティースルーエッチングという手法を用いることにより各電極間でのアライメント無しに作製する方法を開発した。(E.Tomono 他,Proceeding of International Conference on Solid-state Sensors, Actuators and Microsystems,15(2009),853-856) また、ボールレンズとSiの結晶異方性エッチングによって作製した溝とを用いたセルフアライメント手法を用いることで、この電子レンズと電子源とを高精度にアライメントした。(E.Tomono他、応用物理学会学術講演会2009(秋)) さらに、圧電材料であるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)のセラミックス板を用い、それに多層圧電アクチュエータと変位拡大機構などを形成したモノリシック6軸ステージを開発し、これを超並列電子線露光装置のステージとして用いるが、この研究の過程で。高速駆動の可能なマイクロ5軸ステージを完成させた。(Mohd Faizul Mohd Sabri他,J.Micromech. Microeng.、2009)
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[Journal Article]2009
Author(s)
小野崇人, 他
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Journal Title
Next Generation Actuators Leading Breakthroughs(Springer-Verlag)
Pages: 55-66
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