2008 Fiscal Year Annual Research Report
プラズマ表面相互作用における光・ラジカル・電子照射素過程とそのシナジー効果の解明
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19204056
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
浜口 智志 Osaka University, 大学院・工学研究科, 教授 (60301826)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
吉村 智 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (40294029)
北野 勝久 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (20379118)
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| Keywords | プラズマ / 光物性 / 分子動力学 / 反応性ラジカル / プラズマCVD / プラズマエッチング |
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| Research Abstract |
プラズマエッチングやプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition:化学蒸着)プロセスにおいて、高い運動エネルギーを持って物質表面に入射するイオンは、プラズマから同時に照射される光・ラジカル・電子の影響により、表面物質と極めて複雑な非平衡化学反応を、物質表面から数ナノメートルの深さの層(表面ナノ反応層)に誘起する。本研究は、数値シミュレーションと精密に制御された多種ビーム同時照射実験を用いてプラズマを「模擬」することにより、プラズマプロセスにおける、それぞれの入射種と物質との相互作用を明らかにするとともに、そのシナジー効果(反応素過程の重ね合わせが成り立たない非線形効果、即ち、反応の相乗効果)を明らかにして、高度に制御可能な新しいプラズマプロセスを構築することを目的とする3年のプロジェクトである。2年目にあたる平成20年度は、Si-O-F-C-H系の分子動力学シミュレーションにN原子を導入し、それを用いて、窒素系薄膜の堆積シミュレーションを行う準備を進めた。一方、低誘電率層間絶縁膜、とりわけ、SiOCHのエッチングシミュレーション、および、炭素系薄膜(グラファイト・アモルファスカーボン)に対する水素入射シミュレーションの解析も行った。さらに、質量分離イオンビーム実験において、イオンビームと紫外線照射の相乗効果を、SiO2およびポリマー(PMMA)膜に対してさらに詳しく解析した。
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[Presentation] NeおよびXeイオンの照射によるMgO, CaO, SrO, BaOのスパッタ率測定2009
Author(s)
吉村 智, 日根清裕, 木内正人, 橋本 潤, 寺内正治, 本多洋介, 坂井全弘, 西谷幹彦, 浜口智志
Organizer
2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
Place of Presentation
筑波大学
Year and Date
2009-03-30
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[Presentation] MgO sputtering yields by noble gas ions at relatively low injection energies2008
Author(s)
S. Yoshimura, K. Hine, M. Matsukuma, K. Ikuse, M. Kiuchi, T. Nakao, J. Hashimoto, M. Terauchi, M. Nishitani, S. Hamaguchi
Organizer
15^<th> International Display Workshops
Place of Presentation
Toki Messe Niigata Convention Center, Niigata, Japan
Year and Date
2008-12-03
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