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2009 Fiscal Year Annual Research Report

プラズマ表面相互作用における光・ラジカル・電子照射素過程とそのシナジー効果の解明

Research Project

Project/Area Number 19204056
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

浜口 智志  Osaka University, 工学研究科, 教授 (60301826)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 吉村 智  大阪大学, 工学研究科, 准教授 (40294029)
北野 勝久  大阪大学, 工学研究科, 准教授 (20379118)
Keywordsプラズマ / 光物性 / 分子動力学 / 反応性ラジカル / プラズマCVD / プラズマエッチング
Research Abstract

半導体デバイス製造工程等に用いられるプラズマプロセスにおいて、高い運動エネルギーを持って物質表面に入射するイオンは、プラズマから同時に照射される光・ラジカル・電子の影響により、表面物質と極めて複雑な非平衡化学反応を、物質表面から数ナノメートルの深さの層(表面ナノ反応層)に誘起する。本研究は、数値シミュレーションと精密に制御された多種ビーム同時照射実験を用いてプラズマを「模擬」することにより、プラズマプロセスにおける、それぞれの入射種と物質との相互作用を明らかにするとともに、そのシナジー効果(反応素過程の重ね合わせが成り立たない非線形効果、即ち、反応の相乗効果)を明らかにして、高度に制御可能な新しいプラズマプロセスを構築することを目的とする3年のプロジェクトである。3年目にあたる平成21年度は、Si-O-F-C-H系の分子動力学シミュレーションコードを用いて、フォトレジストを模擬した単純なポリマーPMMAへのフロロカーボンラジカル・イオンの照射シミュレーションをおこなった。これにより、プラズマとポリマーの相互作用の一般的性質を明らかにした。また、PMMAへの同様なイオンビーム照射実験を行い、シミュレーション結果との比較を行った。また、シリコン基板などへの水素入射による表面ダメージの影響もマルチビーム照射実験により明らかにした。また、3年間の研究成果を総合すると、プラズマから物質表面へ照射されるイオン・中性ラジカル・紫外光・電子の相互作用によるエッチングや堆積プロセスへの影響が出る条件を明らかにし、また、数値シミュレーションを用いて、それらの効果の一部については、その物理的機構が明らかとなった。

  • Research Products

    (25 results)

All 2009 Other

All Journal Article (8 results) (of which Peer Reviewed: 6 results) Presentation (16 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Effect of Ultraviolet Light Irradiation on Etching Process of Poly(methylmethacrylate)by Ion Beam Injections2009

    • Author(s)
      S.Yoshimura, K.Ikuse, Y.Tsukazaki, M.Kiuchi, S.Hamaguchi
    • Journal Title

      J.Phys. : Conf.Series 191

      Pages: 0120301-5

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 分子動力学シミュレーションニよる硬質炭素膜形成メカニズムの解析2009

    • Author(s)
      村上泰夫、浜口智志
    • Journal Title

      J.Plasma Fusion Res. 85

      Pages: 674-679

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Sputtering yields of Au by low-energy noble gas ion bombard ment2009

    • Author(s)
      K.Ikuse, S.Yoshimura, K.Hine, M.Kiuchi, S.Hamaguchi,
    • Journal Title

      J.Phys.D : Appl.Phys. 42

      Pages: 135203-1-7

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] CF_3^+イオンビームを用いたポリメタクリル酸メチル樹脂のエッチングにおける紫外光照射の効果2009

    • Author(s)
      幾世和将, 吉村智, 塚崎泰裕, 木内正人, 浜口智志
    • Journal Title

      J.Vac.Soc.Jpn. 52

      Pages: 127-130

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] ドライエッチング表面解析 : 原子スケールアプローチ」浜口智志、小特集「ドライエッチングの科学と技術の新局面2009

    • Author(s)
      浜口智志
    • Journal Title

      プラズマ核融合学会誌 85

      Pages: 177-184

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Atomic-Scale Numerical Simulations of Structural Properties in Carbon-Based Thin Film Deposition Processes,2009

    • Author(s)
      Yasuo Murakami, Seishi Horiguchi, Satoshi Hamaguchi
    • Journal Title

      Proceedings of the 19th International Symposium on Plasma Chemistry, (ed.By A.von Keudell, J.Winter, M.Boke, V.Schlz-von der Gathen, July 26-31, 2009, Bochum, Germany) 1

      Pages: O7.05(3)

  • [Journal Article]2009

    • Author(s)
      浜口智志
    • Journal Title

      ドライ・ウエットエッチング技術全集(第3章第1節執筆担当)(技術情報協会)

      Pages: 221-237

  • [Journal Article] Molecular dynamics simulation of the formation of sp3 hybridized bonds in hydrogenated diamond-like carbon deposition processes

    • Author(s)
      Y.Murakami, S.Horiguchi, S.Hamaguchi
    • Journal Title

      Phys.Rev.E (印刷中)

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] MDシミュレーションによるプラズマ対向炭素材料のエッチング特性2009

    • Author(s)
      山城昌志
    • Organizer
      日本大学生産工学部 第42回学術講演会
    • Place of Presentation
      日本大学生産工学部津田沼キャンパス、津田沼
    • Year and Date
      2009-12-05
  • [Presentation] Thermal desorption of hydrogen from H+ irradiated Si(100) surfaces2009

    • Author(s)
      C. Thomas, K. Karahashi, S. Hamaguchi
    • Organizer
      the 4th International Symposium on Atomic Technology
    • Place of Presentation
      Maiko Villa, Kobe
    • Year and Date
      2009-11-18
  • [Presentation] Measurement of sputtering/etching yields by CF3 ion beam injection with UV light irradiation2009

    • Author(s)
      Y. Tsukazaki, K. Ikuse, S. Yoshimura, M. Kiuchi, S. Hamaguchi
    • Organizer
      the 4th International Symposium on Atomic Technology
    • Place of Presentation
      Maiko Villa, Kobe
    • Year and Date
      2009-11-18
  • [Presentation] Effects of Hydorgen Incorporation in the Formation of Hydrogenated Diamond-like Carbon Films,2009

    • Author(s)
      S.Hamaguchi
    • Organizer
      the 4th International Symposium on Atomic Technology
    • Place of Presentation
      Maiko Villa, Kobe
    • Year and Date
      2009-11-18
  • [Presentation] Si etching by Br^+ and HBr^+ ion irradiation2009

    • Author(s)
      Tomoko Ito
    • Organizer
      the 4th International Symposium on Atomic Technology
    • Place of Presentation
      Maiko Villa, Kobe
    • Year and Date
      2009-11-18
  • [Presentation] Etching mechanisms of FeCo magnetic films by chemically reactive ener getic ion injections2009

    • Author(s)
      K.Karahashi
    • Organizer
      American Vacuum Society (AVS) 56th International Symposium Exhibition
    • Place of Presentation
      San Jose, CA, USA
    • Year and Date
      2009-11-10
  • [Presentation] Effects of hydrogen bombardment during polysilicon gate etching by HBr/O2 plasmas2009

    • Author(s)
      Tomoko Ito
    • Organizer
      American Vacuum Society (AVS) 56th International Symposium Exhibition
    • Place of Presentation
      San Jose, CA, USA
    • Year and Date
      2009-11-10
  • [Presentation] 低エネルギーイオンビーム照射装置を用いたシリカ基板へのインシウムおよびガリウムの注入2009

    • Author(s)
      吉村智
    • Organizer
      第50回真空に関する連合講演会
    • Place of Presentation
      学習院目白キャンパス、東京
    • Year and Date
      2009-11-04
  • [Presentation] 分子動力学シミュレーションを用いた低誘電率SiOCHエッチング特性の解明2009

    • Author(s)
      鈴木歩太、礒部倫朗、浜口智志
    • Organizer
      第9回関西コロキアム電子デバイスワークショップ
    • Place of Presentation
      関西大学、大阪
    • Year and Date
      2009-10-22
  • [Presentation] Molecular dynamics simulation of plasma surface interaction for low-damage processing,"2009

    • Author(s)
      S.Hamaguchi
    • Organizer
      the 21st International Conference on Numerical Simulati on of Plasmas 2009
    • Place of Presentation
      Lisbon, Portugal
    • Year and Date
      2009-10-08
  • [Presentation] Cl+, Br+イオン照射によるSiエッチング反応における水素の影響2009

    • Author(s)
      伊藤智子, 唐橋一浩, 康松潤, 浜口智志
    • Organizer
      2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山大学、富山
    • Year and Date
      2009-09-08
  • [Presentation] Atomic-Scale Numerical Simulations of Structural Properties in Carbon-Based Thin Film Deposition Processes2009

    • Author(s)
      Y.Murakami
    • Organizer
      the 19th International Symposium on Plasma Chemistry
    • Place of Presentation
      Ruhr University Bochum Germany
    • Year and Date
      2009-07-30
  • [Presentation] New trends in modeling and simulations for plasma technologies,2009

    • Author(s)
      S.Hamaguchi
    • Organizer
      Memorial Symposium for the Retirement of Professor Tachibana, "Toward the Next Generation of Plasma Science and Technology,"
    • Place of Presentation
      Kyoto University, Kyoto
    • Year and Date
      2009-05-30
  • [Presentation] Atmospheric Pressure Plasmas and Their Biological Applications,2009

    • Author(s)
      S.Hamaguchi
    • Organizer
      the 7th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • Place of Presentation
      Chateau Liblice, Liblice, Czech Republic
    • Year and Date
      2009-04-24
  • [Presentation] CHxFy+イオン照射によるエッチング反応の評価2009

    • Author(s)
      伊藤智子
    • Organizer
      2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      東海大学湘南キャンパス、平塚
    • Year and Date
      2009-03-17
  • [Presentation] 反応性イオンによるPt, CoおよびPtCoエッチング反応2009

    • Author(s)
      唐橋一浩
    • Organizer
      2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      東海大学湘南キャンパス、平塚
    • Year and Date
      2009-03-17
  • [Remarks]

    • URL

      http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/

URL: 

Published: 2011-06-16   Modified: 2016-04-21  

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