2007 Fiscal Year Annual Research Report
高エネルギーイオンビームの直描式微細加工による3Dナノ構造の創製
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19206105
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| Research Institution | Japan Atomic Energy Agency |
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Principal Investigator |
神谷 富裕 Japan Atomic Energy Agency, 放射線高度利用施設部, 研究主幹 (70370385)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
西川 宏之 芝浦工業大学, 工学部, 准教授 (40247226)
関 修平 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (30273709)
杉本 雅樹 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 研究副主幹 (90354943)
石井 保行 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 研究副主幹 (00343905)
佐藤 隆博 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 研究職 (10370404)
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| Keywords | ナノデバイス / MEMS / イオンマイクロビーム / ナノ細線 / マスクレス露光 / レジスト / 空間分解能 |
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| Research Abstract |
将来の情報通信・医療技術の発展に不可欠なナノデバイス創製あるいはMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の基盤技術として、核子当りMeV以上のエネルギーを持つ重イオンマイクロビームの高空間分解能、高LET(Linear Energy Transfer:単位長さあたりのエネルギー付与)、および長飛程の特長を活かしたレジスト材に対するナノ細線を含む3次元的なマスクレス露光を実現し、高エネルギーイオンビーム利用の新たな可能性を拓く研究開発に着手した。平成19年度は、計画の初年度として、研究会を開催して研究者間で、研究の進め方、具体的には、ビーム条件やレジスト材の選定方法、実験の詳細に関して協議し、これに基づき共同研究計画を作成した。また、平成20年度以降の研究を効果的に推進するため、ボスドクの採用者を決定した。感度及び空間分餌能の評価のため、まずマイクロビームサイズの評価用にプロトンビーム描画技術と電鋳技術を利用し七製作しだニッケル標準試料を用いた計測により、0.23μmx0.24μmのビームサイズを計測した。3次元加工プロセスを実証するため、高エネルギー重イオンマイクロビームにおいてエネルギーを2段階で変化させて、異なった照射パターンを重ね合わせて露光するための精密試料ステージを整備した。ナノ細線の製作に用いられる高LETイオンを狙った位置に照射可能な高エネルギー重イオンマイクロビーム装置の空間分解能にかかわるレンズ系のイオン光学的な特性を評価した。
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