• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2007 Fiscal Year Annual Research Report

巨大増幅機能を有する高感度ダイヤモンド検出器の開発

Research Project

Project/Area Number 19360018
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

伊藤 利道  Osaka University, 大学院・工学研究科, 教授 (00183004)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 毎田 修  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教 (40346177)
KeywordsCVDダイヤモンド / マイクロ波プラズマCVD / 紫外線検出器 / 軟X線検出器 / n型ダイヤモンド / p型ダイヤモンド / 増幅機能 / 応答速度
Research Abstract

本研究では、(1)巨大増幅度を有するダイヤモンド信号検出・増幅素子を歩留まり良く作製できるプロセスを開発し、(2)その増幅機構の解明を行うことにより、信号増幅の制御に関する基盤技術の知見を得ることを目的としている。(1)については、(100)基板上のホモエピタキシャル成長における伝導型制御プロセスの改善を行った結果、ホウ素ドープしたp型試料の作製プロセスについては、オフ基板の有効性を見出すとともに、燐ドープしたn型試料の作製プロセスにおいては、高プラズマ密度化及び基板温度の高温化の有効性を明らかにした。更に、ダイヤモンド検出器の基本素子のサイズを微小化できる作製プロセスを開発した結果、従来の3mm角の高圧合成基板を用いて、複数個の素子を作製できるようになり、検出器作製の歩留まりが改善された。一方、(2)に対しては、従来構造(櫛形電極)とは異なる積層素子構造のダイヤモンド検出器を考案し、そのような素子構造に適した作製プロセスを新たに開発した。次に、新素子構造を有する検出器を試作し、紫外光や軟X線に対する検出特性(静的検出信号電流の印加電圧依存性)を評価したところ、従来構造の素子に比べ、基板に使用した低品質の高圧合成基板の影響を大幅に低減することができ、紫外線や軟X線の検出効率が増大するとともに、検出器の応答速度も大幅に改善されることが判明した。また、10Tまでの磁場印加下でも、試作ダイヤモンド検出器の静的検出特性はあまり変化しなかった。現在、更なる各種作製プロセスの改善を図るとともに、これまでに得られた実験事実を基に、本ダイヤモンド検出器に特有の増幅機構の解明に向けて検討を行っている。

  • Research Products

    (16 results)

All 2008 2007

All Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (11 results)

  • [Journal Article] Characterization of substrate off-angle effects for high-quality homoepitaxial CVD diamond films2008

    • Author(s)
      O. Maida, H. Miyatake, T. Teraji and T. Ito
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials 17(印刷中)

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High-quality diamond films grown at high deposition rates using high-power-density MWPCVD method with conventional quartz-type chamber2008

    • Author(s)
      T. Nakai, O. Maida and T. Ito
    • Journal Title

      Applied Surface Science (印刷中)

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Characterization of the soft-X-ray detectors fabricated with high-quality CVD diamond thin films2008

    • Author(s)
      Y. Iwakaji, M. Kanasugi, O. Maida, Y. Takeda, Y. Saitoh and T. Ito
    • Journal Title

      Applied Surface Science (印刷中)

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High-quality diamond films grown at high deposition rates using high-power-density MWPCVD method with conventional quartz-type chamber2007

    • Author(s)
      T. Nakai, K. Arima, O. Maida and T. Ito
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth 309

      Pages: 134-139

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effects of vicinal angles from(001)surface on the boron-doping features of high-quality homoepitaxial diamond films grown by the high-power microwave plasma chemical-vapor-deposition method2007

    • Author(s)
      K. Arima, H. Miyatake, T. Terajiand T. Ito
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth 309

      Pages: 145-152

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 高品質CVDダイヤモンド薄膜を用いた軟X線・紫外線検出器の特性評価2008

    • Author(s)
      岩鍛治陽子、金杉将幸、毎田修、竹田幸治、斉藤祐児、伊藤利道
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学,千葉
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] 高出力マイクロ波プラズマCVD法によるホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の基板品質及びオフ角依存性2008

    • Author(s)
      川嶋慎也、宮武秀宇、有馬和也、毎田修、寺地徳之、伊藤利道
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学,千葉
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] 高品質CVDダイヤモンド積層構造におけるキャリア拡散制御2008

    • Author(s)
      金杉将幸、岩鍛治陽子、山元貴、毎田修、伊藤利道
    • Organizer
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学,千葉
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] 高品質CVDダイヤモンド軟X線検出器の開発とその特性評価2007

    • Author(s)
      岩鍛治陽子、金杉将幸、毎田修、竹田幸治、斉藤祐児、伊藤利道
    • Organizer
      第48回真空に関する連合講演会
    • Place of Presentation
      学習院大学,東京
    • Year and Date
      2007-11-14
  • [Presentation] 石英管型低出力MWPCVD装置を用いた高電力密度化によるリンドープダイヤモンド薄膜の作製とその電気的特性の評価2007

    • Author(s)
      中井孝洋、毎田修、伊藤利道
    • Organizer
      第48回真空に関する連合講演会
    • Place of Presentation
      学習院大学,東京
    • Year and Date
      2007-11-14
  • [Presentation] Crystalline quality improvements of the homoepitaxial CVD diamond films on the vicinal substrates2007

    • Author(s)
      O. Maida
    • Organizer
      The Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • Place of Presentation
      首都大学東京、東京
    • Year and Date
      2007-11-13
  • [Presentation] Diffusion control of soft-X-ray-excited carriers in high-quality CVD diamond layers to the HPHT substrate2007

    • Author(s)
      M. Kanasugi
    • Organizer
      The Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • Place of Presentation
      首都大学東京、東京
    • Year and Date
      2007-11-13
  • [Presentation] Characterization of the soft-X-ray detectors fabricated with high-quality CVD diamond thin films2007

    • Author(s)
      Y. Iwakaji
    • Organizer
      The Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • Place of Presentation
      首都大学東京、東京
    • Year and Date
      2007-11-13
  • [Presentation] Characterization of phosphorus-doped homoepitaxial (100 )diamond films grown using high-power-density MWPCVD method with conventional quartz-tube chamber2007

    • Author(s)
      T. Nakai, O. Maida and T. Ito
    • Organizer
      The Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • Place of Presentation
      首都大学東京、東京
    • Year and Date
      2007-11-13
  • [Presentation] 高品質CVDダイヤモンド薄膜を用いた軟X線検出器の特性評価2007

    • Author(s)
      岩鍛治陽子、金杉将幸、毎田修、竹田幸治、斉藤祐児、伊藤利道
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学,北海道
    • Year and Date
      2007-09-06
  • [Presentation] 石英管型簡易装置を用いた高電力密度MWPCVD法によるリンドープダイヤモンド薄膜合成2007

    • Author(s)
      中井孝洋、毎田修、伊藤利道
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学,北海道
    • Year and Date
      2007-09-06

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi