2007 Fiscal Year Annual Research Report
次世代ディスプレイ用SnO2系超低抵抗導電膜の研究
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19360145
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
佐藤 了平 Osaka University, 先端科学イノベーションセンター, 教授 (80343242)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
福田 武司 大阪大学, 工学研究科, 教授 (50354585)
木村 吉秀 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (70221215)
岩田 剛治 大阪大学, 先端科学イノベーションセンター, 准教授 (30263205)
森永 英二 大阪大学, 工学研究科, 助教 (80432508)
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| Keywords | 透明導電膜 / フラットパネルディスプレイ / ナノシード層 / Sn02 / YAGレーザ加工 |
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| Research Abstract |
次世代ディスプレイ用透明導電膜として、低抵抗で、高速パターニングが可能なSnO_2系薄膜の実現とメカニズムの解明を目的に本研究を行った結果、初年度として、以下の成果が得られた。
(1)対象としたSnO_2-Ta-Nb系高密度(95%以上)焼結ターゲットを協力企業と開発し、生産用スパッタターゲットを実現した。
(2)そこで本申請で導入した成膜装置を用いて、透明導電膜を形成した結果、目標比抵抗(10^<-6>Ω・mオーダー)に近い40×10^<-6>Ω・mを実現し、ディスプレイへの適用可能性を見出した。
(3)この比抵抗は、適正な条件(基板温度、0_2分圧、成膜レート、等)があることを示しているが、期待したシード層の効果は小さく、メカニズムの解明が今後の課題である。
(4)一方、高速パターニングとして、YAGレーザによる直接加工パターニング方式を開発した。
(5)この方法により、上記のSnO_2系薄膜が、目標加工エネルギー(40mJ/mm^2オーダー)をクリアする約30mJ/mm^2の低エネルギー高速パターニングの可能性を見出した。
以上により、ほぼ目標を達成するSnO_2系導電膜の可能性を見出した。今後はこれらの詳細なメカニズムを解明し、より優れた導電膜・プロセスの実現を目指して研究を推進する予定である。
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