2009 Fiscal Year Annual Research Report
極端紫外光による超徴細加工実現へ向けた学術基盤確立のためのナノ空間反応研究
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19360428
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
古澤 孝弘 Osaka University, 産業科学研究所, 准教授 (20251374)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
佐伯 昭紀 大阪大学, 産業科学研究所, 特別科学研究員 (10362625)
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| Keywords | 放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 |
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| Research Abstract |
極端紫外光を用いた超徴細加工は半導体製造用の次世代リソグラフイの最有力候補として期待され、もし、実現きれれば、量子ビーム、特にイオン化放射線の産業利用は大きな新展開を迎えることとなる。しかし、量子ビームがナノ空間内に誘起する反応め詳細は不明のままであり、量子ピームの収束性を生がした将来のビーム利用のための基盤研究は進んでいないのが現状である。以上の背景の下、本研究では、極端紫外光がナノ空間に誘起ずる化学反応を、エネルギー付与過程がら中間活性種の初期空間分布と空間分布の時間変化を含め解明することにより、将来、極端紫外光がナノ空間に誘起する現象を、次世代リソグラフィやナノリソグラフィにおいて衝いこなすための学術基盤を確立することを目的とし実施した。
前年度までに、パルスラジオリシス測定装置の改良を行うとともに、レジストモデル化合物のパルスラジオリシスを行い、極端紫外光露光システム、電子線リソグラフィシステムを使用し、レジストモデルシステム中での反応中間体の挙動を解明した。その生成過程を定式化し、シミュレーションと実験結果を比較することにより、反応中間体の空間分布および生成効率を明らかにした。最終年度である本年度は、これまでの実験め補足実験を行うとともに、モンテカルロシミュレーションコードを拡張し、これまで実験により得ら託た知見をすべて組み込んだブルスケールモンテカルロシミュレーションを可能とした。
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[Journal Article] Effect of Polymer Protection and Film Thickness on Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resists2009
Author(s)
T.Fukuyama, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
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Journal Title
J.Photopolym.Sci.Technol. 22
Pages: 105-109
Peer Reviewed
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[Journal Article] Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films2009
Author(s)
T.Fukuyama, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
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Journal Title
Jpn.J.Appl.Phys. 48
Pages: 06FC03
Peer Reviewed
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