2007 Fiscal Year Annual Research Report
| Project/Area Number |
19390487
|
|---|
| Research Institution | Kanagawa Dental College |
|---|
Principal Investigator |
寺中 敏夫 Kanagawa Dental College, 歯学部, 教授 (60104460)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
好野 則夫 東京理科大学, 工学部, 教授 (50084380)
|
|---|
| Keywords | 歯面被覆 / シリカ被膜 / 齲蝕予防 / 齲蝕治療 / 抗菌性シラン / ペルヒドロポリシロキサン |
|---|
| Research Abstract |
洗浄した10×10mmのシリコンウエハにPHPSを塗布後,3%および30%H_2O_2を40μ1滴下し,炭酸ガスレーザーを1.OW,照射距離10mmにて照射した.照射方法はH_2O_2が蒸散するまで連続照射した場合と1分毎にH_2O_2を交換し照射を繰り返す2種の方法,計4通りの組合せにてシリカ転化を行った.
3%H_2O_2を蒸散するまで連続照射した試料は蒸散に5分を要し,1分毎にH_2O_2を交換し5分間繰り返した試料と比較してSi-Nのピークは減少し,1060cm^<-1>のSi-Oのピークは認められるものの,800cm^<-1>付近のピークは不明瞭であった.また,30%H_2O_2では,蒸散まで連続照射した試料では10分を要した.しかしながら,30%H_2O_2を交換し照射を繰り返した場合,照射1分の時点でSi-Oの明瞭なピークが認められ,溶液を全て蒸散させなくとも急速にシリカへと転化が生じていることが示された.
以上の結果から,新鮮な過酸化水素水を供給しながら炭酸ガスレーザーを照射する方法は,過酸化水素水を過度に加熱・蒸散することなく,より低温で効率的にPHPS塗布膜から純度の高いシリカ薄膜を形成するのに有効な方法であることが示された.現在,レーザー以外のさらなる低温転換法を検討している.
焼結アパタイトに対してシランカップリング処理を行い,その溶出試験による細胞毒性試験から,10F2S3IおよびFH3に細胞毒性がないことが判ったが,FH5には若干の毒性が示された.20年度は抗菌性・抗真菌性シランカップリング剤の溶出による細胞毒性試験,および最小発育阻止濃度試験を実施し,in situ研究の基礎データとする。
|
