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2007 Fiscal Year Annual Research Report

触媒化学気相堆積法の酸化性ガスへの適用

Research Project

Project/Area Number 19550015
Research InstitutionShizuoka University

Principal Investigator

梅本 宏信  Shizuoka University, 工学部, 教授 (80167288)

Keywords化学気相堆積 / 酸化性ガス / タングステン触媒 / 酸素原子 / 水素原子 / OHラジカル
Research Abstract

触媒化学気相堆積法において酸化性ガスを使用することは,タングステン等の触媒体が酸化されるため,不可能とされてきた。そして,もっぱら,シラン,アンモニア,メタンなどの還元性雰囲気中での堆積が試みられてきた。しかし,申請者は,最近,多量の水素等の還元性ガスを混合すれば,酸素による触媒体の酸化は防止できることを見出した。本年度の研究では,酸素/水素混合系において,加熱タングステン触媒上で生成する水素原子,酸素原子,OHラジカルの検出と定量をレーザー分光法を用いて行った。水素原子は,真空紫外レーザー吸収法,真空紫外レーザー誘起蛍光法,二光子レーザー誘起蛍光法を用いて,酸素原子は真空紫外レーザー誘起蛍光法を用いて,OHラジカルは紫外部のレーザー誘起蛍光法を用いて検出、定量した。その結果,水素原子濃度は酸素流量に対して階段状に変化すること,酸素原子濃度は,酸素流量が小さい場合にはあまり変化しないが,その後増加を始めること,逆にOHラジカルは,始めの増加速度は大きいが,その後飽和することなどが判明した。これらの結果から,酸素流量が少ないときには,酸素原子の触媒体上での滞在時間は短く,触媒体表面上で水素原子と反応してOHラジカルとして放出されること,この状況下では酸素による触媒毒作用は小さいこと,酸素流量の増加とともに,触媒体表面は酸素原子で覆われ,水素原子の発生は抑えられ,一方で酸素原子の発生量が増加すること等が分かった。

  • Research Products

    (12 results)

All 2008 2007 Other

All Journal Article (6 results) (of which Peer Reviewed: 6 results) Presentation (5 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Future Prospect of Remote Cat-CVD on the Basis of Gas-phase Diagnoses2008

    • Author(s)
      H.Umemoto, et, al.
    • Journal Title

      Thin Solid Films 516

      Pages: 500-502

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Cat-CVD SiN Passivation Films for OLEDs and Packaging2008

    • Author(s)
      A.Heya, et. al.
    • Journal Title

      Thin Solid Films 516

      Pages: 553-557

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Catalytic CVD Processes of Oxidizing Species and the Prevention of Oxidization of Heated Tungsten Filaments by H_22008

    • Author(s)
      H.Umemoto, et. al.
    • Journal Title

      Thin Solid Films 516

      Pages: 829-831

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Production and Detection of Reducing and Oxidizing Radicals in the Catalytic Decomposition of H_2/O_2 Mixtures on Heated Tungsten Surfaces2008

    • Author(s)
      H.Umemoto, et. al.
    • Journal Title

      J.Appl.Phys. 103

      Pages: 034905

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Coating Techniques of Metal Chambers for Remote Catalytic Chemical Vapor Deposition Applications2008

    • Author(s)
      H.Umemoto, et. al.
    • Journal Title

      J.Vac.Sci.Tech.A 26

      Pages: 309-311

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Production Yields of H(D)Atoms in the Reactions of N_2 (A^3Σ_u^+) with C_2H_4,C_2H_2 and their Deuterated Variants2007

    • Author(s)
      H.Umemoto
    • Journal Title

      J.Chem.Phys. 127

      Pages: 014307

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 加熱イリジウム触媒体上における水素分子、酸素分子の分解過程2008

    • Author(s)
      梅本宏信、草薙弘樹、西村和晃、牛島満
    • Organizer
      春季第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      船橋
    • Year and Date
      2008-03-30
  • [Presentation] 原子状水素原子の濃度とレジスト除去速度との関係2008

    • Author(s)
      山本雅史、梅本宏信、堀邊英夫、三浦敏特、田川精一
    • Organizer
      春季第55回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      船橋
    • Year and Date
      2008-03-27
  • [Presentation] 酸素/水素混合系触媒分解過程における酸化性および還元性ラジカルの検出2007

    • Author(s)
      梅本宏信、森寺真司
    • Organizer
      秋季第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌
    • Year and Date
      2007-09-04
  • [Presentation] 酸素/水素混合系触媒分解過程における水素原子の検出2007

    • Author(s)
      梅本宏信
    • Organizer
      第4回Cat-CVD研究会
    • Place of Presentation
      北九州
    • Year and Date
      2007-06-29
  • [Presentation] 最低励起三重項状態の窒素分子とC_2H_2(C_2D_2)との反応におけるH(D)原子の収率2007

    • Author(s)
      梅本宏信
    • Organizer
      第23回化学反応討論会
    • Place of Presentation
      神戸
    • Year and Date
      2007-06-14
  • [Remarks]

    • URL

      http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~thumemo/kaken07.html

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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