2007 Fiscal Year Annual Research Report
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19560056
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| Research Institution | National Institute of Advanced Industrial Science and Technology |
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Principal Investigator |
金子 晋久 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 計量標準管理センター, 総括主幹 (30371032)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
浦野 千春 独立行政法人産業技術総合研究所, 計測標準研究部門, 研究員 (30356589)
大江 武彦 独立行政法人産業技術総合研究所, 計測標準研究部門, 研究員 (30443170)
桐生 昭吾 武蔵工業大学, 工学部・生体医工学科, 教授 (00356908)
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| Keywords | 計測工学 / 標準 / 基礎物理定数 / 計測標準 |
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| Research Abstract |
本研究では通常、h/e^2(25.812 807 kΩ)の整数分の1の値しか発生できない整数量子化ホール抵抗を、集積技術と産総研独自のアイデアにより10 kΩなどの扱いやすい抵抗値を発生させるためのデバイスを開発している。平成19年度には主に素子作製におけるプロセスの条件出しを行った。化合物半導体の集積回路という非常に困難な課題であったが、条件出しは、大部分が終了し、プロトタイプ素子の評価をもとに最終的な最適化を行っているところである。産総研で利用した蒸着用の設備は、比較的小規模な回路作製に用いられている。しかし本デバイスでは6mm×8mmという大面積に集積回路を作りこみ、全部の素子が問題なく動作させる必要がある。そのため、均一なパターンを大面積に作製するための装置の調整に、多くの時間を費やした。その結果、当初6mm×8mmのデバイス作製において、殆どゼロであった歩留まりを、計算上80%まで向上させることに成功した。この成果は他のユーザにも多くのメリットをもたらしている。この成果を生かし、平成20年度に、国家標維持への利用を目指した素子作製、各国標準研究所向けの配布用試料作製及びそれらの評価に取り組む。以上の成果を2008年3月の電気学会全国大会で報告した。また、Conference on Precision Electromagnetic Measurements(8-13 June 2008 Omni Interlocken Resort,Broomfield,Colorado)でも発表予定である(2件の口頭発表が受理、プロシーデイングスも提出予定)。
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