2007 Fiscal Year Annual Research Report
ナノインプリントプロセスにもとづくポリマースルーホールメンブレンの作製
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19750175
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| Research Institution | Kanagawa Academy of Science and Technology |
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Principal Investigator |
柳下 崇 Kanagawa Academy of Science and Technology, 重点研究室光機能材料グループ, 研究員 (50392923)
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| Keywords | ナノ材料 / 自己組織化 / アイクロ・ナノデバイス |
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| Research Abstract |
ナノインプリントプロセスにもとづくポリマースルーホールメンブレンの作製に関し検討を行い,以下の成果を得た。
1.高アスペクト比を有するメタルモールドの作製に関し検討を行った。鋳型となるポーラスアルミナ表面に導通層となる金属層のコートを行い,その後,アルミナ細孔内および表面に金属を電析する手法について検討を進めた結果,イオンビームスパッタ法を用いて導通層の付与を行った場合に,アスペクト比10以上の突起が配列したメタルモールドを再現性良く形成できることがわかった。
2.高アスペクト比メタルモールドを用いた光インプリントの最適化に関する検討を進めた。光硬化性樹脂を用いてポリマー規則表面の形成を行うためには,モールドとポリマーの離型性を高めるために,モールド表面にあらかじめフッ素系の表面処理剤を用いて離型処理を行う必要がある。様々な条件で離型処理の検討を行った結果,高濃度のアルキルフルオロシラン溶液で処理することにより,高アスペクト比モールドを用いたインプリントが可能となることがわかった。
3.ナノインプリントプロセスにもとづくポリマースルーホールメンブレンの作製に関し検討を行い,ポリマー二層構造を用いることによってスルーホールメンブレンの形成が可能であることを確かめた。本手法では,後処理により溶解可能な下地ポリマー層の上に光インプリントにより各細孔が貫通したポリマーホールアレーの形成を行うことで実現した。
4.大面積スルーホールメンブレンの形成に向け,予備的な検討として,1cm角の理想配列ポーラスアルミナの形成とそれを鋳型としたメタルモールドの作製について検討を行った。サイズを拡大した場合においても高アスペクト比メタルモールドの形成が可能であることを確かめた。
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