2008 Fiscal Year Final Research Report
Damage mechanism of thin film at elevated temperature due to atomic migration and evolution of microstructure
| Project/Area Number |
19760060
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Materials/Mechanics of materials
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| Research Institution | Yokohama National University |
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Principal Investigator |
SHIBUTANI Tadahiro Yokohama National University, 大学院工学研究院, 特別研究教員 (10332644)
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| Project Period (FY) |
2007 – 2008
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| Keywords | 原子輸送 / 金属薄膜 / 高温強度 / 微細組織 / クリープ / 錫ウィスカ |
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| Research Abstract |
本研究は、組織変化を伴う原子輸送による欠陥発生・成長メカニズムを解明し高温環境下での損傷評価手法を確立することを目的としている。局所的なクリープ変形によって形成される多軸応力勾配は、欠陥を急速に成長させる。薄膜-基板界面での微視構造変化を考慮した応力解析を行い、原子輸送による欠陥発生には2種類のモードがあることを明らかにするとともに微視組織変化を考慮した破壊モデルを提案した。また、欠陥発生は結晶サイズに大きく依存することを指摘し、その妥当性をナノインデンテーション法により確認した。
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