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2007 Fiscal Year Annual Research Report

スパッタプロセスにおける多元素同時モニタリング技術

Research Project

Project/Area Number 19760508
Research InstitutionWakayama University

Principal Investigator

太田 貴之  Wakayama University, システム工学部, 助教 (10379612)

Keywordsプラズマ / 光源 / 吸収分光法 / スパッタリング / モニタリング
Research Abstract

スパッタプロセスは,半導体のCu配線やゲート電極,ZnOなどの蛍光体や透明電極など非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている.高機能薄膜を高品質に形成するためには,プロセスの気相・薄膜表面反応過程に基づいてスパッタプロセスを高精度に制御する必要がある.本研究では,多元素スパッタプロセスにおける気相中の数種類の金属原子密度を同時モニタリングするための吸収分光用光源の開発し,その光源を用いて実スパッタプロセスの気相診断技術の確立を目的としている.本年度は,数種類の金属原子密度を同時モニタリングするための吸収分光用光源を,マイクロホローカソードプラズマを用いて開発し,その発光特性について研究を実施した.
1.測定可能な金属元素の調査
マイクロホローカソードプラズマを用いた本光源では,スパッタプロセス等のデバイス作製プロセスで重要なIn,Zn,Cu,Zn,Fe,Ti,Al,Ga原子の発光を確認した.これらの発光線は原子吸光分光法における分析線であり、金属原子密度が測定可能であることを示唆する.
2.マルチマイクロホローカソードプラズマのプラズマ特性の調査
各金属原子の発光強度が最も強くなるような条件の調査と,窒素分子の回転スペクトルから光源内のガス温度を調査した.カソード径は小さく,カソード長は短いほど発光が強くなることを見出した.また,スパッタ効果の影響から圧力が小さくなるほど発光強度が大きくなり,0.01MPaにおいて吸収分光用光源として充分な強度を得られることがわかった.
3.金属原子密度測定
本光源をスパッタリング装置に適用し,スパッタ堆積プロセス中の金属原子の絶対密度計測を行った.Cu,Mo,In,Zn原子の絶対密度を10^8〜10^<10>cm_-3オーダーで絶対密度計測ができることを確認した.また,異なる金属原子の密度を同時に測定することが可能であることを確認した.

  • Research Products

    (8 results)

All 2008 2007

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (7 results)

  • [Journal Article] Simultaneous monitoring of multi-metallic atom densities in plasma processes employing a multi-micro hollow cathode 1amp2007

    • Author(s)
      Takayuki Ohta
    • Journal Title

      Applied Physiscs Letters 90

      Pages: 251502

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 吸収分光法を用いた金属原子密度リアルタイムモニタリング用マルチマイクロホローカソード光源の発光特性2008

    • Author(s)
      太田貴之
    • Organizer
      第55回応用物理学会関係連合講演会
    • Place of Presentation
      日本大学
    • Year and Date
      20080327-30
  • [Presentation] マルチマイクロホローカソード光源の発光特性2008

    • Author(s)
      太田貴之
    • Organizer
      第25回プラズマプロセシング研究会
    • Place of Presentation
      山口県教育会館
    • Year and Date
      20080123-25
  • [Presentation] Developmetn of light source using micro hollow cathode plasma for monitoring absolute densities of metal atoms in magnetron sputtering2007

    • Author(s)
      Takayuki Ohta
    • Organizer
      60th Gaseous Electronics Conference
    • Place of Presentation
      Arlington, USA
    • Year and Date
      20071002-05
  • [Presentation] マルチマイクロホローカソード光源の開発(II)2007

    • Author(s)
      太田貴之
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      20070904-08
  • [Presentation] plasma diagnostics on multi-micro hollow light source2007

    • Author(s)
      Takayuji Ohta
    • Organizer
      18_th international symposium on plasma chemistry
    • Place of Presentation
      Kyoto, Japan
    • Year and Date
      20070826-31
  • [Presentation] Development of multi metallic emission array using micro hollow cathode plasma2007

    • Author(s)
      T. Ohta, Y. Tachibana, M. Ito, S. Takashima, Y. Higashijima, H. Kano, S. Den, M. Hori
    • Organizer
      XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases
    • Place of Presentation
      Prague, Czech Republic
    • Year and Date
      20070715-20
  • [Presentation] Development of light source for simultaneous monitoring of multi elements using micro hollow cathode plasma2007

    • Author(s)
      橘 善洋
    • Organizer
      第20回プラズマ材料科学シンポジウム
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      20070621-22

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

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