2008 Fiscal Year Final Research Report
simultaneous monitoring of multi-metallic atoms on sputtering process
Project/Area Number |
19760508
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Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Research Field |
Material processing/treatments
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Research Institution | Wakayama University |
Principal Investigator |
OHTA Takayuki Wakayama University, システム工学部, 助教 (10379612)
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Project Period (FY) |
2007 – 2008
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Keywords | プラズマ診断 / スパッタリング / 吸収分光法 |
Research Abstract |
スパッタプロセスは, 非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている. 本研究では, 高機能薄膜を高品質に形成するために, スパッタプラズマ中の数種類の金属原子密度を同時にモニタリングする技術の開発を目的とした. 具体的には, 金属原子密度測定用の吸収分光用光源の開発し, 透明導電膜製膜スパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い, 金属原子の絶対密度計測に成功した.
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Research Products
(8 results)